Gebraucht RHETECH STI 280 #9292510 zu verkaufen

RHETECH STI 280 Photoresist ist ein innovatives System zur Herstellung von Halbleiterbauelementen. Diese Einheit besteht aus zwei Teilen: einer Nassbearbeitungsmaschine und einem Plasmaätzwerkzeug. Die Nassverarbeitung nutzt eine Vielzahl von flüssigen chemischen Prozessen zum Abscheiden, Entwickeln und Entfernen von Photoresist. Das Plasmaätzmodell arbeitet daran, den Photolack zu ätzen, um das gewünschte Design in das Substrat einzuformen. Zweck der Naßverarbeitungseinrichtung ist es, Photolack auf ein Substratmaterial abzuscheiden. Dies geschieht durch eine Reihe chemischer Verfahren, wie Schleuderbeschichtung, Sprühbeschichtung, Tauchbeschichtung und Vakuumabscheidung. Diese Verfahren arbeiten zusammen, um eine gleichmäßige Schicht aus Photolack auf das Material aufzubringen. Nach dem Aufbringen des Photolacks auf das Substrat wird mit einer Photomaske ein Muster auf dem Photolack erzeugt. Die Maske wird dann mit Licht belichtet und aktiviert den Fotolack, wo das Licht es erreichen könnte. Die belichteten Stellen werden löslicher und können mit einem geeigneten Lösungsmittel entfernt werden. Der Photolack in den unbelichteten Bereichen bleibt unberührt und bleibt im ursprünglichen Zustand. Mit dem Plasmaätzsystem wird dann der Photolack vom Substrat abgeätzt, um das gewünschte Design zu erzeugen. Dies geschieht, indem das Substrat einem Plasma ausgesetzt wird, das ein geeignetes Reaktivgas enthält. Das Gas reagiert mit dem belichteten Photolack zu Radikalen, die dann den Photolack in den selektiven Bereichen wegätzen. STI 280 Photolackeinheit ist ein wichtiges Werkzeug zur Herstellung von Halbleiterbauelementen. Mit dieser Maschine können Geräte nach genauen Spezifikationen erstellt werden, ohne dass die Gefahr einer Kontamination oder einer Durchblutung besteht. Es ist ein zuverlässiges und kostengünstiges Werkzeug zur Herstellung von Halbleiterbauelementen höchster Qualität.