Gebraucht S CUBED / S3 TX535C #9179981 zu verkaufen

S CUBED/S3 TX535C ist eine hochmoderne Photoresist-Ausrüstung, die für eine breite Palette von Photobearbeitungsprozessen entwickelt wurde. Es besteht aus einer leistungsstarken kurzwelligen Strahlungsquelle, einer Waferstufe zur Substratpositionierung und einem automatisierten Handhabungssystem für den Photolack. Die Einheit ist in der Lage, Substratauflösung von 20nm und Merkmalsgrößen von 1,0 Mikron zur Verfügung zu stellen. Die in S3 TX535C verwendete Strahlungsquelle ist ein ultrakurzwelliger Excimerlaser, der einen Wellenlängenbereich von 200 Nanometern bis 350 Nanometern ermöglicht. Der Laser kann Pulse von bis zu 460 Nanosekunden Länge erzeugen, was eine räumliche Auflösung von bis zu 20 Nanometern ergibt. Darüber hinaus ist der Laser in der Lage, die Wellenform jedes Impulses zu steuern, was eine hervorragende Steuerung der Intensitätsverteilung des Laserstrahls ermöglicht. Die Wafer-Stufe von S CUBED TX535C verfügt über eine XYZ-motorisierte Einstellmaschine und ein Temperaturstabilisierungswerkzeug, die beide eine genaue und zuverlässige Substratpositionierung ermöglichen. Es verfügt außerdem über eine schwingungsdämpfende Komponente, um sicherzustellen, dass das Substrat während des Photoresist-Prozesses stabil bleibt und Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 8 "aufnehmen kann. Das automatisch gesteuerte Handlingmodell von TX535C hilft dabei, den Prozess so effizient und konsistent zu gestalten. Er lädt, richtet und entlädt den Fotolack über einen automatisierten Roboterarm, um Genauigkeit zu gewährleisten und menschliches Versagen zu reduzieren. Das Gerät ist auch so konzipiert, um die Leistung jedes seiner Komponenten zu verfolgen, um sicherzustellen, dass sie die gewünschten Ergebnisse konstant produzieren. Abschließend ist S CUBED/S3 TX535C ein fortschrittliches Photolacksystem, das konsistente Ergebnisse bei Auflösungen von bis zu 20 Nanometern bietet. Die Kombination aus einem kurzwelligen Excimerlaser, einer fortschrittlichen Waferstufe und einer automatisierten Handhabungseinheit macht ihn zu einem leistungsstarken Werkzeug für zuverlässige Photolackprozesse.