Gebraucht S CUBED Scene 12 #9256210 zu verkaufen

S CUBED Scene 12 ist ein Photolacksystem, das entworfen wurde, um hochpräzise Muster auf einem Material mit Licht zu erzeugen. Es wird in der Halbleiterindustrie für eine Vielzahl von Anwendungen wie die Schaffung von Transistoren, integrierten Schaltungen und anderen elektronischen Komponenten verwendet. Im Kern dieses Systems befindet sich ein Substrat, bei dem es sich um ein Material wie eine Siliziumscheibe handelt, die mit einer Photolackschicht beschichtet ist. Diese Photoresistschicht ist lichtempfindlich, und wenn sie bestimmten Wellenlängen des Lichts ausgesetzt ist, erfährt sie eine chemische Reaktion, die ein Muster auf dem Substrat erzeugt. Das Substrat wird dann auf einen Projektor der Szene 12 gelegt, mit dem das gewünschte Muster auf die Oberfläche projiziert wird. Der Projektor enthält zwei Komponenten: einen Strahlteiler und eine Maske. Der Strahlteiler teilt das ankommende Laserlicht in zwei getrennte Strahlen auf. Die Strahlen werden dann auf die Maske gerichtet, die das Muster enthält, das auf das Substrat projiziert wird. Diese Maske kann mit Hilfe von CAD-Software (Computer Aided Design) entwickelt werden und besteht typischerweise aus Chrom oder Nickel-Material. Der Projektor schreibt dann mit dem Laserlicht das gewünschte Muster auf das Substrat. Das Licht wird auf eine Querschnittsansicht des Substrats projiziert, wodurch präzise Muster erzeugt werden können. Während das Licht durch die Maske geht, werden die Photonen gestreut und moduliert, um ein Muster auf dem Substrat zu erzeugen. Sobald das Muster geschrieben wurde, wird es dann unter Verwendung chemischer Lösungen entwickelt. Diese Lösungen reagieren mit der Photoresistschicht, wodurch sie zerfällt und eine negative Kopie des Musters auf dem Substrat bildet. Mit dieser Negativkopie werden dann Transistoren, integrierte Schaltungen und andere elektronische Bauelemente erzeugt. Das S CUBED Scene 12 System ist ein wesentliches Werkzeug, um komplexe Muster auf einer Vielzahl von Substraten zu erstellen. Es kann verwendet werden, um extrem kleine und hochpräzise Muster zu erstellen, die für eine Vielzahl von Anwendungen in der Halbleiterindustrie verwendet werden können. Da Fortschritte in dieser Technologie gemacht werden, wird es noch wichtiger für die Schaffung der Komponenten der Zukunft.