Gebraucht SCHNEIDER DHC20 #9379799 zu verkaufen

SCHNEIDER DHC20 Photoresist Equipment ist ein fortschrittliches Werkzeug zur Herstellung von integrierten Schaltungen (ICs). Dabei handelt es sich um einen naßchemischen Prozess, bei dem ein präzise strukturierter Film aus organischem Material auf ein Halbleitersubstrat übertragen wird. Das Photolacksystem besteht aus mehreren Komponenten, darunter einem Entwickler, einer Fotolackmaske, einem Substrat und dem Photolackmaterial. Der Entwickler erstellt eine Lösung des Photolackmaterials, so dass es auf das Substrat aufgebracht werden kann. Anschließend wird die Fotolackmaske auf das Substrat aufgesetzt und das Photolackmaterial einer fokussierten Lichtquelle ausgesetzt. Dieses Verfahren überträgt das gewünschte Muster auf das Substrat. Nach der Übertragung des Photolackmaterials auf das Substrat ist es dann bearbeitungsbereit. Die Verarbeitungsphase umfasst eine Reihe von Schritten, um das gewünschte Muster der IC-Konstruktion zu erreichen. Dazu gehören das Backen des Photolackmaterials, das Eintauchen in eine als „Entwickler“ bekannte Chemikalie und das Ätzen des Substrats. Während des Backvorgangs erfährt das Photoresistmaterial eine Veränderung seiner Struktur, wodurch es widerstandsfähiger gegen das Ätzmittel ist. Der Entwickler hilft, belichtete Abschnitte des Photolackmaterials zu entfernen, wodurch das Muster des IC-Designs erreicht werden kann. Mit dem Ätzmittel werden dann unerwünschte Teile des Substrats entfernt, wobei das gewünschte Muster des IC-Designs zurückbleibt. Schließlich wird die Photolackeinheit verwendet, um ein gewünschtes Muster mit einer Photomaske auf das Substrat zu übertragen. Diese Photomaske wird dann einer Lichtquelle hoher Intensität ausgesetzt, die das gewünschte Muster weiter von der Photomaske auf das Substrat überträgt. Abschließend ist DHC20 Photolackmaschine ein fortschrittliches Werkzeug, das bei der Herstellung von ICs verwendet wird. Dabei handelt es sich um einen naßchemischen Prozess, bei dem ein präzise strukturierter Film aus organischem Material auf ein Halbleitersubstrat übertragen wird. Das Photolackwerkzeug besteht aus mehreren Komponenten, darunter einem Entwickler, einer Fotolackmaske, einem Substrat und dem Photolackmaterial. Diese Ressource wird zusammen mit den Entwicklungs-, Back- und Ätzprozessen verwendet, um das gewünschte Muster des IC-Designs zu erreichen.