Gebraucht SCL CD 200A #9363518 zu verkaufen

SCL CD 200A ist eine Photoresist-Ausrüstung zur Belichtung von Photoresist-Mustern auf einer Vielzahl von Oberflächen. Photoresist ist eine lichtempfindliche Beschichtung, die verwendet wird, um Muster in einer Vielzahl von Substraten wie Glas, Halbleiter oder Metall zu erzeugen. Dieses System ist in der Lage, Muster mit extrem hoher Genauigkeit und ausgezeichneter Wiederholbarkeit zu erzeugen. SCL CD 200 A verwendet eine einzigartige patentierte maskenlose Laserbildtechnik, um komplexe Muster zu bilden. Es verfügt über einen 6 Zoll, 2K (2 048 x 2 048 Pixel) Laserbildkopf, mit einer Auflösung von 10 Mikron; und eine Belichtungsfläche von 120 mm (4,7 Zoll) Quadrat. Dieses Gerät bietet neben einem kompakten und tragbaren Design eine dynamische Fokuslinsenmaschine. CD- 200A ist mit einem fortschrittlichen Touchscreen-Bedienfeld ausgestattet, das eine einfache Einrichtung und Programmierung ermöglicht. Es enthält Funktionen wie eine Musterbibliothek und Batch-Programmierung sowie die Möglichkeit, mehrere Muster für den schnellen Abruf zu speichern. Darüber hinaus unterstützt das Tool eine Vielzahl von Eingabe-, Ausgabe- und Bilddatenformaten. CD 200 A ist für Stabilität und Zuverlässigkeit in einer Vielzahl von Verarbeitungsbedingungen gebaut. Es verfügt über eine fortschrittliche mehrstufige thermische Regulierung, die hilft, Genauigkeit und Stabilität der Prozessparameter sicherzustellen; sowie ein sekundäres Kühlmodell, das die Geräteleistung verbessert. SCL CD 200A hat ein benutzerfreundliches Design, so dass es einfach in eine Vielzahl von Photolackverarbeitungsanwendungen integriert werden kann. Es wird auch mit einer Reihe von werkseitig kalibrierten Masken geliefert, die eine schnelle Einrichtung und einfache Wartung bieten. Die benutzerfreundliche Software des Systems wurde auch entwickelt, um die Arbeitskosten zu senken und die betriebliche Effizienz zu maximieren. Die SCL CD 200 A bietet eine hervorragende Genauigkeit und Flexibilität und ist somit eine gut geeignete Wahl für eine Vielzahl von Anforderungen an Photoresist-Musterung. Die hochentwickelten bildgebenden Funktionen und die dazugehörige Software bieten Anwendern die perfekte Lösung für Batch- und Single-Substrate-Projekte. Diese erweiterte Einheit ist sicher, die Anforderungen jeder Photoresist-Anwendung zu erfüllen, groß oder klein.