Gebraucht SCL CD 400 #9022280 zu verkaufen

SCL CD 400 Photolackausrüstung ist ein leistungsstarkes Werkzeug zur Herstellung komplexer Halbleiterstrukturen. Es wurde entwickelt, um komplizierte Strukturen mit kleinen Formstückgrößen durch die präzise Auflösung der Widerstände und die genaue Tiefe und Breite zu schaffen, die erreicht werden können. Das System wird im lithographischen Verfahren eingesetzt, wobei mittels eines Lichtbelichtungs- und Ätzprozesses ein Maskenmuster auf ein Substrat wie einen Siliziumwafer übertragen wird. CD 400 Photolackeinheit besteht aus mehreren Komponenten, darunter einem Photolithographie-Stepper, einem Radiometer, einer Maskiermaschine und einem Heizwerkzeug. Der Stepper verwendet eine bildgebende Optik, die eine Lichtquelle, Linsen, Spiegel und Filter umfasst, um das Maskenmuster genau auf das Substrat zu projizieren. Das Radiometer dient zur Messung der Lichtbelichtung und zur Überwachung der Belichtung über mehrere Prozessläufe. Das Maskierungsmodell besteht aus Lichtfiltern, Ausrichtungsmasken und einem Maskenhalter. Schließlich besteht die Heizeinrichtung aus einer Kochplatte und einem Ofen, mit denen die Temperatur des Substrats während der Verarbeitung genau eingestellt und aufrechterhalten wird. SCL CD 400 verwendet einen Photoresist, der gegen ultraviolette Strahlung empfindlich ist. Der Fotolack wird auf das Substrat aufgebracht und die Maske darauf projiziert. Die Strahlung von der Lichtquelle und der Abbildungsoptik wird durch die Maske auf den Fotolack übertragen und der Resist löst sich überall dort auf, wo das Licht darauf trifft. Nach dem Belichten des Musters auf den Photolack erfolgt eine Nachbelichtungsbacke, die das Muster in den Resist setzt und zum Ätzen vorbereitet. Die in CD- 400 verwendeten Resists weisen eine sehr präzise Dickenfähigkeit im Bereich von zehn Nanometern auf. Die bildgebende Optikeinheit und das Radiometer haben eine Auflösung von 0,5 Mikrometern, die in der Lage ist, Designs mit Funktionsgrößen von bis zu 0,5 Mikrometern Breite und Tiefe zu erstellen. Dies ermöglicht die Erstellung sehr komplizierter Geometrien, die mit anderen Lithographiemethoden unmöglich wären. SCL CD 400 Photoresist Maschine bietet ein zuverlässiges und präzises Werkzeug für den Einsatz in der Halbleiterbauelementherstellung. Es ist hinsichtlich seiner Auflösung, Tiefe und Breite sehr vielseitig und bietet Ingenieuren und Wissenschaftlern eine leistungsfähige Plattform, um immer komplexere und komplexere Muster zu entwickeln.