Gebraucht SCL CD 400 #9102037 zu verkaufen

SCL CD 400 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die extrem hochauflösende, strukturierte Funktionen für eine Vielzahl von Anwendungen wie Mikrochips, mikroelektromechanische Systeme oder andere lithographische Prozesse erzeugt. Das System besteht aus zwei Hauptkomponenten: einer Lichtquelle und einer Belichtungsplatte. Die Lichtquelle ist so konzipiert, dass sie einen Wellenlängenbereich von 300-400nm bereitstellt, um während des Belichtungsprozesses optimalen Kontrast und Eigenschaften auf der Photolackschicht zu erzeugen. Die Belichtungsplatte weist auf ihrer Oberfläche ein präzises Gittermuster auf, das eine genaue Mustererfassung ermöglicht, wenn die Lichtquelle auf die Platte fokussiert ist. Die optischen Komponenten von CD 400 bestehen aus einer fokussierenden Linse, die eine extrem kleine Punktgröße auf der belichtenden Plattenoberfläche für eine genaue Musterbelichtung erzeugt. Die Linse ist so konzipiert, dass die tiefe ultraviolette (DUV) Linse in einem geraden, kleinen Strahl fokussiert wird, der auf der Resist-Platte platziert wird. Das Belichtungslicht wird auf den gewünschten Beleuchtungspegel des Photolacks eingestellt. Während eines typischen Belichtungsprozesses wird eine Spannungswellenform an die Lichtquelle angelegt, um deren Intensität zu begrenzen. Nach Einstellung der Lichtquelle wird das Substrat in die Vakuumkammer der SCL CD 400 eingelegt. Die Belichtungsplatte wird in die Kammer eingesetzt, dann wird die Photolackplatte auf die Platte aufgesetzt. Schließlich wird vor der Belichtung ein Gas eines Inertgases, wie Kohlendioxid, in die Kammer gepumpt, das das Licht diffundiert und optische Aberrationen beseitigt. Nach der Belichtung kann der Photolack dann in einer chemischen Lösung entwickelt werden, nachdem das Substrat aus der Vakuumkammer entfernt wurde. Nach dem Entwicklungsprozess weist die Photolackschicht genau definierte Merkmale auf, die von der Lichtquelle aus CD 400 erzeugt wurden. SCL CD 400 Photoresist Unit ist für hochauflösende und einfache Bedienung ausgelegt. Die Lichtquelle der Maschine und präzise Belichtungsplatten erzeugen eine kontrastreiche Photolackschicht, die präzise entwickelt werden kann. Das Inertgas, das die Vakuumkammer füllt, hilft, optische Aberrationen zu beseitigen und Licht zu diffundieren, so dass CD 400 detaillierte Merkmale mit einer Genauigkeit schaffen kann, die konventionellen lithographischen Methoden Konkurrenz macht.