Gebraucht SCL CD 500 AR 42 #9102796 zu verkaufen

SCL CD 500 AR 42 ist eine E-Strahl-Photoresist-Ausrüstung, die für den Einsatz in Herstellungsverfahren von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Es wurde entwickelt, um Merkmale und kritische Abmessungen im Nanometermaßstab auf dielektrischen und leitfähigen Materialien zu erzeugen, die bei der Herstellung integrierter Schaltungen verwendet werden. Dieses System schließt eine vielfache Elektronbalkensteindruckverfahrenquelle, eine starke Maßfähigkeit ein, und ein softwarekontrollierter photowidersteht Verwaltungseinheit. Die E-Strahlquelle von CD 500 AR 42 verfügt über eine resonante In-Linsen-Maschine, die eine hohe Beschleunigung unterstützt und die für fortschrittliche Lithographiemuster gewünschten hochauflösenden Bilder bereitstellt. Mit seinen breiten Strahlstromdichten lassen sich die Betriebsbedingungen für eine optimierte Belichtung von Photoresists und Substratmaterialien einstellen. Die leistungsstarken messtechnischen Fähigkeiten dieses Tools umfassen die Fähigkeit, den dynamischen Fokus, die Zeile/Span-Verfolgung, die kritische Dimension (CD) auf der Marke und die Profilkonturen zu messen. Für eine einfache Integration in automatisierte Produktionsumgebungen ist die SCL CD 500 AR 42 mit einer Application Programming Interface (API) ausgestattet und bietet Kompatibilität mit einer Vielzahl von Kommunikationsprotokollen. Das Photoresist Management Asset der CD 500 AR 42 bietet umfassende Unterstützung für alle Arten von Photoresists, die bei der Geräteherstellung verwendet werden. Dieses Modell enthält eine hohe Genauigkeit, automatisierte Ausrüstung zur Steuerung mehrerer Aspekte der Photoresist Vorbehandlung und Post-Exposure-Backen. Es wurde entwickelt, um ein optimales Fenster zwischen Belichtungs- und Backzyklen aufrechtzuerhalten und eine zuverlässige und wiederholbare Photolackentwicklung zu gewährleisten. SCL CD 500 AR 42 ist die ideale Wahl für jede Halbleiterproduktion. Mit seinem robusten Design und der hohen Leistungsfähigkeit bietet dieses System eine äußerst zuverlässige Lösung für die Herstellung komplizierter, nanometergenauer Merkmale. Darüber hinaus ermöglichen die eingebauten Messtechnik-Systeme eine schnelle und genaue Steuerung der Belichtungsprozesse, während die Photoresist-Managementeinheit eine automatisierte, zuverlässige Lösung für Vor- und Nachbelichtungsanwendungen bietet.