Gebraucht SCL CD 80 #9184562 zu verkaufen

SCL CD 80 ist eine Photolackausrüstung, die speziell für die Herstellung von Leiterplatten entwickelt wurde. Es ist ein fortgeschrittener Typ der Fotolithographie, die Qualitäts-, Hochleistungsstromkreismustergeneration ermöglicht. Es besteht aus zwei Teilen: der Hauptbelichtungseinheit, die eine spezielle UV-Belichtungslichtquelle ist, und der Resisteinheit, die die Photolackmaterialien ist. Die Belichtungseinheit stellt das für die Musterherstellung benötigte Belichtungslicht zur Verfügung, während die Resisteinheit das Photolackmaterial, das auf dem Leiterplattensubstrat in einem Muster mittels Photolithographie beschichtet ist, bereitstellt. CD 80 Photolacksystem verwendet eine hochintensive UV-Belichtungslichtquelle, die die Herstellung von Mustern mit sehr feinen Details ermöglicht. Dies wird durch den Top-Down-Ansatz in der Belichtung ermöglicht, der Muster von Photolack erzeugt, der in benachbarten Schichten belichtet wird. Die hohe Intensität UV-Licht ermöglicht die Belichtung auf dem idealen Belichtungszeitbereich für die meisten Photoresists, abhängig von der Belichtungszeit für jedes Muster benötigt. Die benötigte Belichtungsmenge wird durch die Einstellung von Belichtungszeit und Intensität eingestellt, wodurch ein hohes Maß an Kontrolle über das Photolackmuster ermöglicht wird. Die Resisteinheit der Einheit besteht aus verschiedenen Photolackmaterialien, die im Photolithographieverfahren eingesetzt werden können. Dadurch kann der Hersteller je nach Anwendung das richtige Resistmaterial auswählen. Photoresist ist ein lichtempfindliches Material, das auf ein strukturierendes Substrat aufgebracht und ultraviolettem (UV) Licht ausgesetzt wird. Das Material wird in einer Entwicklerlösung löslicher. Bei der Photolithographie wird das belichtete Resistmaterial entfernt, während der unbelichtete Bereich vor dem Entwickler geschützt ist und auf dem Substrat verbleibt. Als solche wird die Musterherstellung durch die Kombination der Belichtungs- und Entwicklerprozesse erreicht. SCL CD 80 Photolackmaschine ist für genaue und reproduzierbare Mustererzeugung konzipiert. Es ist benutzerfreundlich, so dass der Benutzer die Belichtungszeit und Intensität für das gewünschte Muster leicht anpassen kann. Es ist auch für eine breite Palette von Photolackmaterialien ausgelegt, die die Auswahl des geeigneten Resistmaterials für die Anwendung ermöglichen. Die Kombination dieser Eigenschaften führt zu Qualitäts- und Hochleistungsleiterplattenherstellungen, sowie verbesserter Prozessstabilität, Flexibilität und Genauigkeit.