Gebraucht SCL Osmoseur #9363016 zu verkaufen

Hersteller
SCL
Modell
Osmoseur
ID: 9363016
System.
SCL Osmoseur Photoresist ist ein erstklassiges Lithographiesystem für High-End-Anwendungen in der Photolithographie. Die Einheit verwendet eine vakuumgesteuerte, photoresistbeschichtete Chrommaske, um Muster unterschiedlicher Größe und Form auf die freiliegende Oberfläche von Halbleitersubstraten zu übertragen. Der Photolithographievorgang beginnt damit, dass die Chrommaske mit Licht einer bestimmten Wellenlänge belichtet wird und dabei UV-Licht aus einer Quecksilberdampflampe gefiltert wird. Dadurch wird das Muster auf der Chrommaske beleuchtet und das UV-Licht belichtet dann selektiv die Photolackbeschichtung auf der Substratoberfläche und überträgt das Muster auf das Substrat. Die Maschine verwendet eine robuste, geschlossene Steuerung, um sicherzustellen, dass der Substrathalter immer auf konsistenter Höhe bleibt und eine genaue Ausrichtung von Maske und Substrat auch bei sehr kleinen Maßstäben gewährleistet. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung der Belichtungszeit und des Leistungsniveaus sowie eine Kompensation von Umweltfaktoren wie Temperatur und Luftfeuchtigkeit. Die Photolackschicht wird durch das Ätzmodul des Werkzeugs entfernt, das eine ausgewählte Kombination von Chemikalien verwendet, um den Photolack in verschiedenen Bereichen zu belichten und zu entfernen. Dadurch wird sichergestellt, dass auch die kompliziertesten Designs originalgetreu reproduziert werden können. Das Asset ist hochautomatisiert und verfügt über eine benutzerfreundliche Oberfläche mit mehreren Programmierfunktionen. Benutzer können Parameter für verschiedene Muster festlegen und den gewünschten Photolacktyp, den Substrattyp und die Ätzrate auswählen. Das Modell ist auch entworfen, um eine beispiellose Sicherheit für die Mitarbeiter zu bieten, mit eloxierten feuerfesten Materialien, geschlossene Kammer und Kapuzenoperation. Dadurch wird sichergestellt, dass Anwender nicht Chrom, Quecksilber und anderen schädlichen Toxinen ausgesetzt sind. Insgesamt ist Osmoseur Photoresist ein fortschrittliches und zuverlässiges Lithographiesystem, das zuverlässige und präzise Muster mit hoher Sicherheit für die Mitarbeiter liefert. Es ist die perfekte Lösung für jede hochwertige, präzise Photolithographie-Anwendung.
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