Gebraucht SCL SD 3000 #9052117 zu verkaufen

Hersteller
SCL
Modell
SD 3000
ID: 9052117
Dip coating machine Class 1000 (inside the machine) Temperature: 20°c +/- 2°c Humidity: < 50% Lenses racks: (15) Racks, 28 mm, 2 x 18 lenses (5) Racks, 35 mm, 2 x 14 lenses Temperature (in the tanks): Detergent tanks: up 60º C City water rinsing tanks: Ambient temperature DI Water tanks: 38º C Liquid range of viscosity limitation: Varnish pumps: ~ 5 CP Air filters: Laminar flow inside machine Absolute EPA filter and pre filter Raw materias: Stainless steel tanks Over flow tanks Pipes FIlter Stainless steel varnish circuit Dipping speed limit: Lift out tank 7 (Di water) Dipping varnish tank (1&2) 1 mm/s (10%) to 8 mm/s (100%) Coating tank: 5º C, 10º C, 20º C Limitation – temperature & concentration: Detergent – 60º C. NaOH: up to 15% Varnish: temperature controlled by chiller, between ambient and 5º C Water: Tap water with pipe Ø 16 mm D.I water with pipe Ø 16 mm Draining PVC pipes Ø 50 mm 400 V 50/60 Hz, 3 phases + neutral + ground, 22KW.
SCL SD 3000 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für den Einsatz in industriellen Anwendungen wie Mikroelektronik und Laminierung entwickelt wurde. Das System verwendet einen ausgeklügelten Elektronenstrahl, um Muster und Formen auf verschiedenen Substraten zu erzeugen. Die Einheit ist in der Lage, verschiedene Materialien, einschließlich Stahl, Aluminium und Halbleiter, genau und präzise zu ätzen. Die von der Maschine erzeugten Ätzmuster können verwendet werden, um eine Vielzahl von Geräten und Produkten zu erstellen, von Komponenten der Oberflächenmontagetechnik bis zu Antennen und RFID-Tags. SD 3000 verwendet ein spezialisiertes chemisches Dampfgefäß (CVV), um das Substratmaterial in Photoresist einzutauchen. Der CVV wird auf eine bestimmte Temperatur erhitzt, wodurch der Photolack viskoser wird. Dadurch kann der Elektronenstrahl schnell und präzise das gewünschte Muster oder die gewünschte Form auf der Substratoberfläche abtasten. Der Elektronenstrahl ist fein abgestimmt, um eine hohe Präzision auch für komplizierte Formen und detaillierte Muster zu erzielen. Der Elektronenstrahl ist von einer Gaskammer umgeben, die mit inerten Gasen wie Stickstoff, Argon und Xenon gefüllt ist. Während sich der Elektronenstrahl bewegt, erzeugt er einen elektrischen Lichtbogen, der die inerten Gase aufheizt, was wiederum eine geringe Menge Photoresist auf das Substratmaterial verdampft. Durch die Kombination von Lichtbogen und erhitzten Gasen entsteht ein Plasma, das den Photolack in einem gewünschten Muster auf die Substratoberfläche abscheidet. Der gesamte Prozess findet innerhalb der CVV-Kammer statt, wobei der aufgedampfte Photoresist sehr gleichmäßig und elastisch ist. SCL SD 3000 kommt auch mit integrierter Software zur Steuerung der Muster und Formen, die mit dem Elektronenstrahl erzeugt werden. Dies ermöglicht eine schnelle und einfache Anpassung der zu erstellenden Formen und Muster, so dass der Benutzer komplizierte Formen und detaillierte Muster erstellen kann. Die Software ermöglicht auch eine einfache Integration in bestehende Systeme, so dass die Integration von SD 3000 in jeden bestehenden Produktionsprozess einfach ist. Insgesamt SCL SD 3000 ist ein leistungsfähiges und präzises Fotolackwerkzeug, das verwendet werden kann, um komplexe Formen und Muster auf verschiedenen Arten von Materialien zu erstellen. Der Elektronenstrahl ist hochgenau und bietet eine hohe Präzision, und die integrierte Software ermöglicht eine schnelle und einfache Anpassung der zu erstellenden Formen und Muster. Schließlich ist der Vermögenswert sicher und zuverlässig und gewährleistet jedes Mal konsistente Ergebnisse. Damit ist SD 3000 ein unschätzbares Werkzeug für industrielle Anwendungen wie Mikroelektronik und Laminierung.
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