Gebraucht SCREEN R1W-811 #9391970 zu verkaufen

SCREEN R1W-811 ist ein fortschrittliches Photoresist-Gerät für den Einsatz in Halbleiterherstellungsprozessen. Es ist ein leistungsfähiges, hochwertiges Photolacksystem, das sowohl schnelle als auch optimale Erträge liefert. Entwickelt von SCREEN Semiconductor Solutions, besteht R1W-811 Einheit aus einer lichtempfindlichen Schicht, die im Spin-Coat-Verfahren auf den Wafer abgeschieden wird. Diese lichtempfindliche Schicht wird dann mit Licht belichtet und zur Erzeugung der gewünschten Schaltungsstruktur auf dem Wafer entwickelt. SCREEN R1W-811 ist eine negative Photoresist-Maschine, d.h. die dem UV-Licht ausgesetzte Fläche wird während des Entwicklungsprozesses aus dem Wafer entfernt. Nach Belichtung wird der Wafer einem alkalischen Entwickler ausgesetzt, um die belichteten Bereiche des Photolacks wegzulösen, was zu einem negativen Bild der gewünschten Schaltung führt. Dieses Photoresist-Werkzeug ist auf eine sehr starke Haftung auf dem Wafer ausgelegt, wodurch komplexe Muster auf der Waferoberfläche entstehen können. R1W-811 eignet sich für den Einsatz in CMOS-Prozessmodulen wie Logik-Gattern, Speichern und anderen Komponenten. Es eignet sich besonders für Hochgeschwindigkeits-Logikanwendungen, da die hohen Präzisionsstufen des Photolithographie-Prozesses zu sauberen und zuverlässigen Schaltungsmustern führen. Darüber hinaus bieten die dünne Schichtdicke, die hohe Auflösung und die hohe Empfindlichkeit zusätzliche Gestaltungsfreiheit und größere Flexibilität für komplexe Layoutdesigns. Neben der Leistung in der Photolithographie ist SCREEN R1W-811 auch auf maximale Produktivität ausgelegt. Es verbessert die Handhabung von Photoresist, sorgt für schnelle und einfache Gleichmäßigkeit der Beschichtung und erhöht die Entwicklerkonsistenz für verbesserte Wafererträge, was eine schnellere Umdrehung und einen höheren Durchsatz ermöglicht. R1W-811 Asset ist ideal für Halbleiterherstellungsprozesse, die hochpräzise Schaltungsmuster mit minimalen Inkonsistenzen erfordern. Seine starke Haftung, dünne Beschichtung, hohe Auflösung und hohe Empfindlichkeit ermöglichen die Bildung komplexer Muster mit größerem Erfolg und größerer Geschwindigkeit bei gleichzeitiger Erhaltung hoher Produktausbeuten. SCREEN R1W-811 bietet Anwendern hohe Leistung, Qualität und Produktivität, die es zu einer optimalen Wahl für die Halbleiterproduktion machen.