Gebraucht SCREEN RF3 #293586632 zu verkaufen

SCREEN RF3 Photoresist Equipment ist eine hochmoderne Entwicklungs- und Belichtungseinheit zur strukturierten Übertragung von Photomasken zur Verwendung bei der Herstellung von Dünnschichtmikroschaltungen. Das System bietet überlegene Leistung gegenüber herkömmlichen photolithographischen Prozessen. RF3 Photolift-Einheit verfügt über ein Holotablet mit 48 Zoll Durchmesser und einer robusten elektronischen Steifigkeitsmaschine. Dies ermöglicht eine hochpräzise Ausrichtung des Resistmaterials relativ zum Maskenbild, was sich direkt auf die Auflösung der resultierenden Muster auswirkt. Dieses Werkzeug bietet auch eine automatische Messung der Widerstandsdicke und des Profils, was eine genaue Kontrolle der Entwicklungszeit ermöglicht. Das Photoresist-Verfahren besteht darin, eine Fotomaske mit einem Substrat unter Verwendung der optischen Tabelle von SCREEN RF3 auszurichten. Anschließend strahlt UV-Licht durch die Maske auf das Substrat, wo es vom Photolack absorbiert und modifiziert wird. Bei Belichtung des Photolacks bewirkt die Reaktion zwischen dem Resist und dem Licht eine chemische Veränderung, die das gewünschte Mikroschaltungsmuster erzeugt. Einmal belichtet, muss der Photoresist dann entwickelt und weggeätzt werden, um das Mikroschaltungsmuster aufzudecken. RF3 Asset verfügt zudem über einen verbesserten, bestrahlungsresistenten Photoresist. Dieses neue Photoresist-Material hat einen niedrigeren Wärmeausdehnungskoeffizienten und eine höhere thermische Stabilität als herkömmliche Photoresists. Dies ermöglicht eine geringere Verzerrung während des Entwicklungs- und Ätzprozesses, was zu höheren Auflösungen und höheren Ausbeuten führt. Darüber hinaus ist SCREEN RF3 Modell in der Lage, die Dicke der Photolackschicht und die resultierende Mustergröße mit einer Genauigkeit von bis zu 0,1 Mikrometern zu messen. Dieses Maß an Präzision ermöglicht eine überlegene Leistung in hochdichten Mikroschaltungen, in denen Zeit und Aufwand benötigt werden, um eine komplexe Schaltung herzustellen. Insgesamt ist RF3 Photoresist-Ausrüstung ein vielseitiges Werkzeug, das bei der Herstellung von Dünnschicht-Mikroschaltungen verwendet wird. Es bietet überlegene Leistung und Genauigkeit im Vergleich zu anderen Photolithographie-Techniken und ermöglicht die Herstellung von hochdichten, leistungsstarken Mikroschaltungen auf kostengünstige Weise.