Gebraucht SCREEN RF3 #9311026 zu verkaufen

SCREEN RF3 ist ein Photoresist-Gerät, das hohe Präzision und extrem hohe Genauigkeit Mikrolithographie-Prozesse ermöglicht. Es verwendet ein fortschrittliches softwaregesteuertes optisches System, das die Manipulation des Lithographie-Prozesses ermöglicht, extrem komplexe und winzige Muster mit höchster Genauigkeit zu erstellen. Die Einheit besteht aus zwei Hauptkomponenten; der Laserscanner und die hochpräzise Hexa-Achsen-Stufe. Der Laserscanner ermöglicht eine genaue und präzise Belichtung von Photolackmaterial. Diese Laserscanmaschine ist mit einem Scankopf ausgestattet, der in einem Bereich von Submikron bis zu mehreren hundert Mikrometern und mit einer hohen Geschwindigkeit von bis zu 1 GHz arbeiten kann. Die Hexachsstufe ist mit einer verstellbaren Vorrichtung ausgestattet, um die genaue und stabile Positionierung des Wafers zu gewährleisten. Diese Stufe kann den Wafer auch in Schritten von 0,001 ° bis 0,0015 ° drehen, um kompliziertere Strukturen zu schaffen. RF3 Werkzeug ist hochpräzise und zuverlässig; es verfügt über automatisierte Ausrichtungs- und Regelungsservos für die Rückkopplungssteuerung und den kontinuierlichen Reinraumbetrieb. Dies gewährleistet eine hohe Genauigkeit bei gleichzeitiger Minderung der Verschmutzungsgefahr durch Vibrationen oder thermische Geräusche. Darüber hinaus ist die Anlage in der Lage, außergewöhnliche Wafer Gleichmäßigkeit und geräuscharme Profile für optimale Geräteleistung und Erträge zu produzieren. Es verfügt über eine zusätzliche In-situ-Messtechnik-Option, die eine prozessinterne Überwachung und Steuerung des Photolackprozesses ermöglicht. SCREEN RF3 Modell bietet höchste Genauigkeit und Präzision für Photoresist-Prozesse und erzeugt außergewöhnliche Produktleistung und minimierte Ausbeuten. Diese Ausrüstung wird heute weit verbreitet in der Industrie der Halbleiter- und Nanotechnologie-Prozesse eingesetzt.