Gebraucht SCREEN RF3 #9329008 zu verkaufen

SCREEN RF3 ist ein Photoresist-Gerät, das für eine Vielzahl von PCB (Printed Circuit Board) -Herstellungsanwendungen verwendet wird. Das Hauptmerkmal dieses Systems ist seine Fähigkeit, schnell und genau eine Vielzahl von Bildbereichen auf dem Substrat für die anschließende Verarbeitung durch den Ätzprozess zu belichten. RF3 ist typischerweise mit einem elektronischen Gerätepaket ausgestattet, einschließlich einem HF-Generator, der zur Erzeugung eines elektrischen Feldes verwendet wird, und einer Photomaske, die etwas größer als die hergestellte Leiterplatte ist und das auf das Substrat zu übertragende Schaltungsmusterbild enthält. Beim Anlegen des elektrischen Feldes wird das auf der Maske befindliche Bild dem Substrat ausgesetzt, wodurch das Schaltungsmuster in dieses eingebettet werden kann. Mit Hilfe der Photomaske, um die genauen benötigten Positiven und Negativen auf der Leiterplattenoberfläche bereitzustellen, sendet der HF-Generator sehr kurze und leistungsschwache Spitzen mit hoher Frequenz an die Photomaske, wenn das erforderliche elektrische Feld erzeugt wird. Durch diesen Vorgang wird das Bild ohne Beschädigung oder Verzerrungen des Ätzmaterials auf das Substrat übertragen. Die Photomaske kann auch verwendet werden, um eine kostengünstigere Alternative zu Lithographieverfahren zu bieten, indem sie mit einem entwickelten Resistmaterial wie negativem Photoresist oder positivem Photoresist in Partnerschaft gebracht wird. Das entwickelte Resistmaterial, das unerwünschte Metalle vom Substrat wegätzen soll, wird demselben elektrischen Feld ausgesetzt, das durch den HF-Generator erzeugt wird. Dies ermöglicht es dem Benutzer, das gewünschte Muster auf dem Substrat genau zu erstellen und gleichzeitig eine kostengünstige Verarbeitung zu erstellen. SCREEN RF3 ist außerdem darauf ausgelegt, das elektrische Feld schnell und präzise zu erzeugen sowie hochauflösende Bilder aufgrund des an die Fotomaske gesendeten Niederleistungssignals bereitzustellen. Darüber hinaus ist das von der Einheit erzeugte Bild mit einer Vielzahl von Substratmaterialien kompatibel, einschließlich Metall, Glas, Kunststoff und Keramik. Der in RF3 Maschine verwendete HF-Generator wurde entwickelt, um den Strahlungsverlust zu minimieren und das erforderliche elektrische Feld mit minimalem Störungsrisiko zu erzeugen. Dadurch wird sichergestellt, dass die auf der Leiterplatte aufgebrachten Schaltungsmuster während des Ätzvorgangs intakt und genau bleiben. Insgesamt ist SCREEN RF3 Photoresist-Tool eine zuverlässige und kostengünstige Möglichkeit, Bildbereiche auf Substraten genau zu erstellen, die dann für die Weiterverarbeitung verwendet werden können. Seine Fähigkeit, schnell, genau und sicher die erforderlichen Muster und Formen auf die Oberfläche eines Substrats anzuwenden, macht es für eine breite Palette von PCB-Fertigungsanwendungen gut geeignet.