Gebraucht SCREEN RF3S #9379824 zu verkaufen

SCREEN RF3S ist eine lichtempfindliche Beschichtungsanlage, die von SCREEN Process Company entwickelt wurde. Photoresist ist ein Material, das seine Eigenschaften ändert, wenn es Licht ausgesetzt ist, so dass es bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen, Photonik und Leiterplatten sehr nützlich ist. RF3S System ist eine leistungsstarke Lösung für Anwender, die hohe Genauigkeit und Auflösung erfordern. Die Einheit besteht aus einer dreischichtigen Beschichtungsstruktur mit einer Aluminiumreflexionsschicht und einer lichtempfindlichen Photoresistschicht darüber. Auf der Bodenschicht befindet sich ein speziell formuliertes Ausblockmaterial, das die beiden anderen Schichten vor dem Kontakt mit dem Substrat schützen soll. Die Aluminiumreflexionsschicht reflektiert das Lichtmuster einer Maske bis zur Photolackschicht, aktiviert es und liefert ein klares, hochauflösendes Muster, das auf das Substrat übertragen wird. SCREEN RF3S Maschine ist in der Lage, hochpräzise Muster, mit ausgezeichneter Auflösung und Wiederholbarkeit. Es eignet sich zur Strukturierung von Ergebnissen mit Linienbreiten von unter 5 Mikrometern und kann eine Überlagerungsgenauigkeit von bis zu 1 Mikrometer bieten. Es ist auch in der Lage, hohe Laserleistung und anspruchsvolle Materialien zu widerstehen, einschließlich solcher mit High-K-Dielektrika. Das Werkzeug ist relativ einfach zu bedienen, mit einem einfachen Beschichtungsverfahren und geringen Wartungsanforderungen. Es funktioniert am besten mit sauberen Substraten und stabilen Temperatur- und Feuchtigkeitsstufen und eignet sich perfekt für den Einsatz mit kurz- und langlebigem Photoresist. Es ist auch mit der Nassverarbeitung kompatibel, was eine einfache Entfernung des Photolacks und die Aufrechterhaltung der Integrität des zugrunde liegenden Musters ermöglicht. RF3S Asset ist kostengünstig und zuverlässig, eine ideale Lösung für eine Reihe von Photoresist-Anwendungen. Es eignet sich perfekt zur Strukturierung komplexer, präziser Komponenten und ist flexibel genug, um in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt zu werden. Dies ist ein leistungsstarkes Modell, das Anwendern optimale Genauigkeit, Auflösung und Zuverlässigkeit in Photolithographie-Prozessen bietet.