Gebraucht SEMES EKPS-01 #9352140 zu verkaufen

SEMES EKPS-01
Hersteller
SEMES
Modell
EKPS-01
ID: 9352140
Weinlese: 2014
Track systems 2014 vintage.
SEMES EKPS-01 ist eine chemisch verstärkte positive Photolackanlage, die zur Herstellung von integrierten Schaltungen und anderen zugehörigen mikroelektronischen Bauelementen verwendet wird. Photoresists bestehen in der Regel aus einem lichtempfindlichen Polymerfilm, der auf einem Substrat beschichtet, mit einer Lichtquelle strukturiert und dann zu einem Musterbild entwickelt wird. EKPS-01 ist ein wirtschaftliches Photoresistsystem, das eine erhöhte Lösungsstabilität, eine verbesserte Haftung und Auflösung sowie ein verbessertes Profil gegenüber ähnlichen Systemen bietet. Die Hauptkomponenten der Einheit sind eine untere und mittlere Oberflächenschicht aus Photolack, eine Barriereschicht und eine obere Oberflächenschicht aus Photolack. Die untere Oberflächenschicht besteht aus einem Polyamideimidpolymer, das die Haftung auf dem Substrat fördert, während die Zwischenschicht und die obere Schicht aus Photolack aus einem vernetzten Polyimidpolymer bestehen, das für eine überlegene Auflösung und Ätzfestigkeit ausgelegt ist. Die Barriere besteht aus einem Polyamideimid zum Blockieren von Sauerstoff/Feuchtigkeit-Eindringen. Diese Art der Konstruktion hilft bei der Verbesserung der Haftung und ermöglicht eine höhere Auflösung der Strukturierung während der Geräteherstellung. Der Hauptvorteil dieser Photolackmaschine ist ihre ausgezeichnete Auflösung. SEMES EKPS-01 ist in der Lage, Funktionen bis zu 0,1 µm zu produzieren, was für High-End-Schaltungsanwendungen wichtig ist. Zusätzlich sorgt das Werkzeug für erhöhte Stabilität, minimiert Abfall im Herstellungsprozess und spart Zeit durch verringerte Zykluszeit. Die klebende Eigenschaft der EKPS-01 hilft, Risse oder Peeling während des Musterprozesses zu minimieren. SEMES EKPS-01 asset bietet einen Prozess der chemischen Verstärkung (CA), der die Empfindlichkeit und Geschwindigkeit des Belichtungsprozesses erhöht und gleichzeitig eine hohe Auflösung aufrechterhält. Der CA-Prozess erfolgt durch eine wässrige Lösung und beinhaltet zwei Komponenten: einen Säuregenerator und einen Stabilisator. Der Säuregenerator erhöht die Empfindlichkeit in der Photoaktivierungsstufe und der Stabilisator verhindert eine vorzeitige Entwicklung. Dieser Prozess ist insofern vorteilhaft, als er die Zykluszeit erheblich reduziert und gleichzeitig eine verbesserte Bildqualität bietet. Aufgrund seiner ausgezeichneten Auflösung, der verbesserten Stabilität, der ausgezeichneten Haftung und des chemischen Verstärkungsprozesses ist EKPS-01 Photoresist-Modell eine ideale Wahl für die Schaltungsherstellung. Seine erweiterten Funktionen ermöglichen eine verbesserte Auflösung und Ätzfestigkeit und bieten eine hervorragende Leistung bei einer Vielzahl von Anwendungsbedingungen.
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