Gebraucht SEMES KPS-60V #9265100 zu verkaufen

SEMES KPS-60V Photoresist Equipment ist ein Hochleistungssystem für die Erstellung von Photomasken in einer Vielzahl von industriellen Anwendungen, einschließlich Mikroelektronik-Produktion. Basierend auf einer hochauflösenden Vakuumverdampfungseinheit ist KPS-60V in der Lage, lichtempfindliches (Resist-) Material gleichmäßig und wiederholbar abzuscheiden, um sehr detaillierte Photomasken mit extrem feinen Merkmalen zu erzeugen. Ein wesentlicher Vorteil von SEMES KPS-60V Maschine ist seine Fähigkeit, lichtempfindliches Material auf Siliziumscheiben, Substraten und anderen Materialien mit sehr hoher Präzision abzuscheiden. Zwei verschiedene Teile des Werkzeugs sind am Abscheidungsprozess beteiligt, die Vakuum Thermal Evaporation Unit und Photo Resist Processing Unit. Die Vakuum-Thermoverdampfungseinheit ist für die gleichmäßige Abscheidung des lichtempfindlichen Materials verantwortlich und in der Lage, einen extrem gleichmäßigen Aufbau des Photolackmaterials mit einer Mindestmerkmalsgröße von 0,1 µm zu erzeugen. Die Photoresistverarbeitungseinheit umfasst eine Reihe von zusätzlichen Komponenten, wie einen eingebauten optischen Kopf zur Überprüfung der Fotomaskenfilmqualität, einen Laserschreiber zur Erstellung von Photomaskenmustern in Materialien und einen effizienten Photoätzprozess, um detaillierte Merkmale genau auf die Fotomaske anzuwenden. Darüber hinaus ist KPS-60V auch in der Lage, den Photomasken-Heiz- und Ätzprozess feinabzustimmen, um optimale Ergebnisse zu erzielen. Der Hauptschwerpunkt von SEMES KPS-60V asset ist seine Fähigkeit, unglaublich genaue Fotomasken mit extrem feinen Details zu produzieren. Dies geschieht durch eine hochpräzise Überwachung und Steuerung des Vakuumprozesses während der Abscheidung des Photolacks. Mit einer extrem schnellen Reaktionszeit für die Parametereinstellung ist KPS-60V in der Lage, den höchsten Wirkungsgrad während des gesamten Photomasken-Produktionsprozesses zu halten. Abschließend ist SEMES KPS-60V Photoresist-Modell eine hochentwickelte Ausrüstung entwickelt, um extrem genaue Photomasken mit hochpräzisen Funktionen zu schaffen. Seine Kombination aus einer Vakuum-Thermoverdampfungseinheit, einem Laserschreiber und einem Photoätzverfahren machen ihn zu einem Branchenführer in der Photomasken-Produktionstechnologie. Die hochentwickelten Steuerungen und die schnelle Reaktionszeit des Systems sorgen dafür, dass hochgenaue und detaillierte Photomasken zuverlässig und schnell erstellt werden können.