Gebraucht SEMES Lozix #9236890 zu verkaufen

SEMES Lozix ist ein Photoresist-Gerät, das Licht verwendet, um Muster auf der Oberfläche eines Substrats zu erzeugen. Der Photolack ist ein flüssigkeitsförmiges Material, das mit Licht belichtet werden kann, um ein Muster auf der Oberfläche zu erzeugen. Dieses Material besteht üblicherweise aus einem Polymer, Acrylat und einem Farbstoff. Der belichtete Photolack wird dann entwickelt, um das Muster auf das Substrat zu ätzen. Das Lozix-System ist für die Strukturierung von Materialien mit einer großen Dicke wie dünnen Metallfolien, Glas und Kunststoffsubstraten optimiert. Die verbesserte Auflösung ermöglicht es, Muster mit Merkmalen bis zu 5 μ m (0,005 mm) zu erzeugen. Das Gerät dient der großflächigen Strukturierung sowie der Herstellung von Mikrostrukturen. Seine Flexibilität und Präzision machen es zu einem geeigneten Werkzeug für Medizin, Elektronik, Luft- und Raumfahrt und viele andere Branchen. Der Photolack wird typischerweise über eine Schleuderbeschichtung auf das Substrat aufgebracht. Diese Beschichtung wird dann vor der Belichtung mit einer lichtsperrenden Kontakthülse abgedeckt. Diese Hülse dient der Vermeidung von Störungen durch andere Lichtquellen und gewährleistet eine gleichmäßige Belichtung des Photolacks. Die Belichtung kann entweder durch direkte Beleuchtung oder durch überlappende, von einer Linsenmaschine projizierte Bilder erreicht werden. Anschließend wird der belichtete Photolack entwickelt, um ein strukturiertes Substrat zu erhalten. Der Entwicklungsprozess kann je nach Anwendung mit positiven oder negativen Photoresists durchgeführt werden. Positive Photoresists erzeugen Muster durch Entfernen des unbelichteten Materials, während negative Photoresists arbeiten, indem sie das belichtete Material hinter sich lassen. Schließlich ist das strukturierte Substrat für seine jeweiligen Anwendungen einsatzbereit. Das Werkzeug SEMES Lozix ermöglicht eine schnelle, genaue und vielseitige Strukturierung von Substraten. Es bietet auch eine Vielzahl von Belichtungs- und Entwicklungsoptionen für die Anpassung von Mustern an die Anwendungsanforderungen. Seine Flexibilität und Präzision eröffnen vielfältige Möglichkeiten für Prototyping und kleine Produktionsläufe.