Gebraucht SEMES Semhawk #9302263 zu verkaufen

SEMES Semhawk ist eine Photolackausrüstung der nächsten Generation, die die Herstellung komplexer, hochauflösender integrierter Schaltungen ermöglicht. Das System nutzt einen höheren Energiestrahl, ein extremes ultraviolettes Licht genannt, um sich bei der Erzeugung scharfer, kontrastreicher Bilder auszuzeichnen. Dies ist auf die hochenergetische Natur des Lichtstrahls zurückzuführen, der es erlaubt, Molekülen zu widerstehen, die eine herkömmliche Photoresisteinheit nicht kann. Durch die Kombination von Geschwindigkeit und Produktivität ist nun die Herstellung komplexer Mikroelektronik möglich, die vorher nicht realisierbar war. Kernstück der Maschine ist eine Elektronenstrahlpistole mit Cold Field Emission (CFE) und Brillengläsern (SLMs), die die Erzeugung und Manipulation der für die Lithographie verwendeten elektromagnetischen Strahlung ermöglicht. Zur Steuerung und Ausrichtung des CFE wird ein UV-Laser verwendet. Anschließend leitet und moduliert das CFE den UV-Lichtstrahl auf eine resistbeschichtete Oberfläche. Dieser Resist wird durch das UV-Licht selektiv geschmolzen und/oder gehärtet, wodurch ein Bild auf der Oberfläche erzeugt wird. Semhawk ist hochintegriert und umfasst Funktionen wie die Rapid Thermal Processing Unit, um den Fotolack vor Beschädigungen durch schnelles Erwärmen und Kühlen des Resists während der Verarbeitung zu schützen. Das Werkzeug ist auch mit einer Vakuumkammer, Elektroden und einem Detektor ausgestattet, die es ermöglichen, das intensive Vakuum zu erzeugen, das notwendig ist, um die Bilder auf der Photolackschicht genau zu bilden. Die Anlage ist langlebig und effizient und kann der Belastung durch raue UV- und Prozessumgebung durch Einbeziehung abriebfester und hitzebeständiger Komponenten standhalten. Aufgrund seiner hochdichten Komponenten, Verdrahtung und Wärmebeständigkeit ist es auch in der Lage, Bilder von überlegener Qualität und Genauigkeit zu produzieren. Das Modell kann Funktionsgrößen bis zu 180 Nanometer erzeugen und unterstützt Belichtung und Waferstapelung von bis zu 8 Schichten. Neben seiner Robustheit umfasst das Gerät Funktionen wie ein automatisches Mustererkennungsmodul, das dem Benutzer dabei helfen kann, die Bilder zu optimieren und das Risiko von Musterfehlern zu reduzieren. Das System nutzt auch eingebaute automatische Belichtung und Fokussteuerung für mehr Genauigkeit. Mit seinen vielfältigen Funktionen und Vorteilen ist diese Photolackeinheit ideal für Kunden, die ein Werkzeug suchen, das Bilder mit hohen Kontrasten, sauberer Oberfläche und minimalen Musterdefekten erzeugen kann.