Gebraucht SEMES STH5320H #9298975 zu verkaufen

SEMES STH5320H ist eine hochmoderne Photolackanlage, die bei der Herstellung von mikroelektronischen Geräten eingesetzt wird. Das System besteht aus einer Lichtquelle zur Belichtung der belichteten Bereiche eines Fotolackfilms mit einer Energiequelle sowie weiteren Geräten zur Herstellung verschiedener Komponenten wie Waferstufen, Spinner, Gaskrümmer und Abgasanlage. Die Maschine ist in der Lage, eine Vielzahl von Photoresists zu verarbeiten, einschließlich trockener und flüssiger Filme, mit verschiedenen Dicken und Oberflächenbehandlungen. Dieses ausgeklügelte Werkzeug trägt dazu bei, dass nur die erforderlichen Teile der Photolacke belichtet und entwickelt werden, was zu genaueren und präziseren mikroelektronischen Komponenten führt. Die Hauptkomponenten der Anlage sind die Lichtquelle, die Energiequelle und die Waferstufen. Die Lichtquelle ist typischerweise eine UV-Lichtquelle, auf die der Fotolackfilm belichtet wird. Diese Lichtquelle kann in der Intensität variiert werden, um sicherzustellen, dass die richtige Belichtung in Abhängigkeit von der Art des verwendeten Photolacks und der Dicke der Folie erreicht wird. Die Energiequelle ist in der Regel eine Vakuumquelle mit einem Vakuumbereich von 0,5-10 Torr. Ein starkes Vakuum ist notwendig, um Luftmoleküle von der Oberfläche der Photoresists zu entfernen, wodurch sich die belichteten Teile der Folie entwickeln können. Neben der Energiequelle enthält das Modell auch einen Gaskrümmer, um einen kontrollierten Gasstand für den Entwicklungsprozess bereitzustellen. Die Waferstufen ermöglichen eine präzise Bewegung des Photolackwafers während des Bearbeitungszyklus. Die Stufen ermöglichen es dem Wafer, sich über die Lichtquelle zu bewegen und eine glatte und gleichmäßige Belichtung zu gewährleisten. Diese Stufen sind mit einer wiederholbaren, hochgenauen Positionskontrolle ausgestattet, die genaue Ätz- und Belichtungsergebnisse ermöglicht. Nach Erreichen der gewünschten Belichtung wird mit einem Spinner der entwickelte Photolackwafer beschichtet und der Resist gleichmäßig auf den Wafer dispergiert. Das Gerät enthält auch eine integrierte, verstellbare Abgasanlage, um eine ordnungsgemäße Luftzirkulation zu gewährleisten und gefährliche Dämpfe oder Dämpfe zu entfernen, die während des Photoresist-Verarbeitungszyklus entstehen. Diese Einheit hilft auch, eine konstante Temperatur im Photoresist-Bearbeitungsbereich zu halten, unter Einhaltung optimaler Bedingungen für die Photoresist-Entwicklung. Zusammenfassend ist STH5320H eine leistungsstarke Photolackmaschine, die für die Herstellung von mikroelektronischen Geräten entwickelt wurde. Das Werkzeug ist in der Lage, eine Vielzahl von Fotolackfilmen mit verschiedenen Dicken und Oberflächenbehandlungen genau und präzise zu belichten. Die Anlage umfasst eine Lichtquelle, Energiequelle, Gaskrümmer, Wafer-Stufen, Spinner und Abgasmodell, alle entworfen, um eine ordnungsgemäße Photolackentwicklung und eine gleichmäßige Anwendung des Photolacks auf dem Wafer zu gewährleisten. Darüber hinaus kann die Ausrüstung für eine optimale Luftzirkulation und Temperatur eingestellt werden, was eine sichere und geregelte Arbeitsumgebung bietet.