Gebraucht SEMICON LHB-3100 #9117937 zu verkaufen

SEMICON LHB-3100 ist eine hochpräzise Photoresist-Ausrüstung, die im Photolithographieverfahren für die fortschrittliche IC-Herstellung eingesetzt wird. Das System wird verwendet, um ätzfeste lichtempfindliche Masken zu erzeugen, die verwendet werden, um ein Muster auf ein Substrat zu übertragen, um Strukturen für IC-Komponenten zu bilden. Die Schlüsselkomponenten von LHB-3100 sind seine hochauflösende Bildgebungseinheit, seine Resistschichtbeschichtungsmaschine und sein Resistentwicklungswerkzeug. Das bildgebende Element projiziert mit einer Projektionslinse das gewünschte Muster detailliert auf das Substrat. Das Resistbeschichtungsmodell beschichtet dann das Substrat mit einer dünnen Photolackschicht, die lichtbelichtet ausgebildet ist. Die Resistentwicklungsausrüstung verwendet einen spezialisierten Entwickler, um die freiliegenden Bereiche der Resistmaske selektiv zu ätzen, so dass die unbelichteten Bereiche intakt bleiben, um eine ätzfeste Schutzmaske zu bilden. SEMICON LHB-3100 wurde entwickelt, um die Anforderungen der fortschrittlichen IC-Herstellung zu erfüllen, da es mit seinem hochauflösenden Bildgebungssystem eine minimale Funktionsgröße von bis zu 0,8 µm erreichen kann. Es bietet auch eine hervorragende Auflösung von bis zu 15 Zeilenpaaren/Millimeter, was eine scharfe Bildauflösung und eine ausgezeichnete Kontrolle über das erzeugte Muster gibt. Zusätzlich ermöglicht das Gerät Belichtungszeiten von bis zu 300 Millisekunden, was eine Verzögerung nach der Belichtung überflüssig macht. Seine Resistbeschichtungs- und Entwicklungssysteme helfen, Mikrodefekte zu reduzieren und die Genauigkeit zu gewährleisten. LHB-3100 bietet auch mehrere herausragende Funktionen für die fortschrittliche IC-Fertigung wie automatisiertes Laden/Entladen von Substraten, optimierte Overlay-Registrierung und automatisierte Fokusdiagnostik. Darüber hinaus sorgen seine Prozesssteuerungsfenster für eine einfache Prozessverfolgung und Überwachung. Insgesamt ist SEMICON LHB-3100 eine ausgezeichnete Photolackmaschine für die IC-Herstellung, die eine ausgezeichnete Bildgebungsqualität mit einer scharfen Auflösung und Genauigkeit, überlegener Leistung und zuverlässiger Programmierung bietet. Es ist mit den für die IC-Produktion der nächsten Generation entscheidenden High-End-technologischen Eigenschaften gebaut und ist ideal für IC-Hersteller, die nach einem robusten und präzisen Photolithographie-Tool suchen.