Gebraucht SEMIGROUP PP-1000 #9124952 zu verkaufen

ID: 9124952
RIE system Microprocessor control: 12" parallel plate RIE both lower and upper electrodes are temperature controlled Lower electrode: up to 450 Degrees C Upper electrode contains a shower head for gas delivery Power supply: 208 V, 30 A.
SEMIGROUP PP-1000 ist eine negative Photoresist-Ausrüstung, die hauptsächlich für die Produktion von Leiterplatten (PCB) und andere mikroelektronische Anwendungen verwendet wird. Sie besteht aus einem Photolack, der aus einem lichtempfindlichen Film besteht, der auf ein Substrat aufgebracht ist. Bei UV-Belichtung härtet der Photolack aus und wird in Entwicklungslösungsmitteln unlöslich. Nach der Entwicklung des Bildes kann der Photolack mit Lösungsmitteln aus dem Substrat entfernt werden, wobei die Metallschaltung belichtet bleibt. PP-1000 ist ein negativ sensibilisiertes System, d.h. die belichteten Bereiche des Substrats härten bei Lichteinwirkung aus, während die unbelichteten Bereiche weniger reaktiv sind und in Entwicklungslösungsmitteln löslich bleiben. Diese Einheit besteht aus einem Photolack, einem Aktivator und in einigen Fällen aus einem Nachbelichtungsbacken. Bei Belichtung mit reinem UV-Licht ist der Photoresist gehärtet und in den sich entwickelnden Chemikalien unlöslich. Nach vollständiger Bildentwicklung kann der Photolack vom Substrat weggestrippt werden. Dieses Verfahren wird in vielen Leiterplattenproduktionsprozessen zur Bildung von Lotmasken, leiterseitigen Trockenfolien und plattierten Durchgangslöchern eingesetzt. Die für SEMIGROUP PP-1000 verwendete Fotoresistmaschine muss mit den Metallschichten kompatibel sein, die auf das Substrat gedruckt werden. Der Photolack sollte die Fähigkeit haben, die Haftung zwischen der Metallschicht und dem Substrat zu fördern. Ein weiterer wichtiger Faktor ist die Haltbarkeit des Photolacks, die größer als drei Monate sein sollte, um sicherzustellen, dass der Photolack während der Verarbeitung noch intakt ist. Der in PP-1000 verwendete Aktivator ist die übliche Tauch- und Trockenmethode. Dieser Aktivator kann vor der Lichteinwirkung auf das Substrat aufgebracht werden, um das Photolackmaterial zu aktivieren. In einigen Fällen kann auch ein Nachbelichtungsbacken erforderlich sein, um den Photolack vollständig auszuhärten. Dieses Backen kann in Abhängigkeit von den Anforderungen bei einer festgelegten Temperatur und Zeit durchgeführt werden Abschließend ist SEMIGROUP PP-1000 Tool ein negatives Photoresist-Asset, das hauptsächlich für die Leiterplattenproduktion und andere Mikroelektronik-Anwendungen verwendet wird. Es besteht aus einem Photoresist, Aktivator und in einigen Fällen einer Nachbelichtungsbacke. Bei UV-Belichtung härtet der Photolack aus und wird in Entwicklungslösungsmitteln unlöslich. Nach der Entwicklung des Bildes kann der Photolack mit Lösungsmitteln aus dem Substrat entfernt werden, wobei die Metallschaltung belichtet bleibt.
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