Gebraucht SEMITOOL 240F #151785 zu verkaufen

SEMITOOL 240F
Hersteller
SEMITOOL
Modell
240F
ID: 151785
Wafergröße: Up to 4"
Spin rinse dryer, up to 4".
SEMITOOL 240F ist eine Photolackausrüstung für Halbleiterhersteller, die Präzision, Wiederholbarkeit und Zuverlässigkeit betont. Dieses System der nächsten Generation verbessert die Prozesskontrolle sowohl der nassen als auch der trockenen Photolithographie. 240F gibt Anwendern die volle Kontrolle über ihre Lithographie-Prozesse. Der integrierte programmierbare Timer ermöglicht es Benutzern, ihre Belichtungszeit genau zu steuern. Ein digitaler Monitor ermöglicht die Sichtbarkeit während des gesamten Photolithographie-Prozesses, so dass Benutzer ihren Prozess in Echtzeit überwachen können. Die Ebeam-Beleuchtung sorgt für ein hohes Maß an Gleichmäßigkeit auf dem Wafer, und seine „Smart Scan“ -Funktion ermöglicht es ihm, Fehler während der Produktion schnell und genau zu erkennen. SEMITOOL 240F bietet Anwendern auch erweiterte Handhabungs- und Transferfunktionen für Substrate. Ein sechsachsiger Roboterarm positioniert und überträgt die Substrate bezüglich der optischen Achse genau. Die Vakuum- und Filtereinheit sorgt für die Integrität der Photolackschicht und minimiert Defekte. Diese Maschine ist für maximale Effizienz ausgelegt. Es verwendet einen Wafer Dicing Chip (WDC) zum Würfeln und Schneiden von Wafern und einen Wafer Cleaning Robot (WCR) zum Reinigen von Wafern. Beide Funktionen reduzieren den manuellen Eingriff, wodurch Benutzer ihre Prozesse rationalisieren und die Produktion steigern können. 240F ist auch auf Sicherheit und ökologische Nachhaltigkeit ausgelegt. Zu den Sicherheitsmerkmalen gehören eingebaute Übertemperatursensoren, Monitore zur Erkennung gefährlicher Chemikalienniveaus und dedizierte Kühlkanäle zur Vermeidung von Temperaturänderungen. Das Abgaswerkzeug filtert und zirkuliert die Abluft effizient und reduziert die Emissionsleistung erheblich. Insgesamt ist SEMITOOL 240F ein fortschrittliches Photoresist-Asset, das den höchsten Ansprüchen an Präzision, Wiederholbarkeit und Zuverlässigkeit gerecht wird. Es bietet Anwendern maximale Kontrolle über den Photolithographie-Prozess und verbesserte Effizienz, Sicherheit und ökologische Nachhaltigkeit.
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