Gebraucht SEMITOOL 240F #9283685 zu verkaufen

SEMITOOL 240F ist eine Photoresist-Ausrüstung zur Abscheidung von Dünnschichtschichten auf Halbleiterscheiben. Seine erweiterten Funktionen ermöglichen es, dünne Filmschichten mit einem hohen Maß an Präzision und Genauigkeit abzuscheiden. Das System besteht aus vier Hauptkomponenten: einer Vakuumkammer, einer Sputterquelle, einer Isolationskammer und einer Photolackschicht. Die Vakuumkammer wird verwendet, um eine Niederdruckumgebung zu schaffen, die hilft, den Hintergrund zu reduzieren und die thermische Oxidation zu hemmen. Die Sputterquelle befindet sich dann innerhalb der Vakuumkammer und ist in der Lage, eine Dünnfilmschicht aus Medien auf die Oberfläche des Wafers abzuscheiden. Die Isolationskammer dient zur Aufrechterhaltung des erforderlichen Gleichgewichts zwischen dem Substrat und den Reaktionskammergasen und hilft, eine gleichmäßige Beschichtung über dem Wafer zu erzeugen. Schließlich trägt die Photolackschicht dazu bei, die Dünnfilmschicht vor der Umgebung zu schützen und bei Ätzprozessen auf dem Wafer zu haften. 240F umfasst auch mehrere Funktionen zur Unterstützung einer präzisen Prozesssteuerung und -überwachung. Das Gerät enthält visuelles Echtzeit-Feedback zur Aufrechterhaltung der Prozessgleichförmigkeit. Darüber hinaus wird die Durchlaufzeit durch Doppellastarme und optimierte Prozessleitungslängen verbessert, was eine höhere Produktivität und geringere Kosten bedeutet. Die integrierte AutoSave Software Suite bietet zudem eine leistungsstarke Plattform für Rezeptentwicklung und höhere Prozesskontrolle. Insgesamt ist SEMITOOL 240F eine fortschrittliche Photolackmaschine, die fortschrittliche Funktionen nutzt, um Präzision und Genauigkeit während der Abscheidung von Dünnschichtschichten auf Halbleiterscheiben bereitzustellen. Seine ausgeklügelte Prozesssteuerung sorgt für einheitliche und zuverlässige Ergebnisse bei minimalem Kosten- und Zeitaufwand. 240F ist eine ideale Lösung für Branchen, die eine zuverlässige und qualitativ hochwertige Abscheidung von Dünnschichtschichten benötigen.