Gebraucht SEMITOOL 260 #82968 zu verkaufen

SEMITOOL 260 ist eine Photolackausrüstung zur Herstellung von Halbleiterbauelementen. Dieses System ist mit fortschrittlichen Funktionen ausgestattet, die höchste Präzision und Zuverlässigkeit bieten. Das Gerät kombiniert das Beste in der Präzisionsfotoresistabgabe und Beschichtung, Musterung und Inspektion für die höchste Qualität der Geräteherstellung. 260 verfügt über ein hochmodernes automatisiertes Verfahren zur Photoresist-Anwendung. Der hochauflösende Dosier- und Beschichtungskopf verfügt über Düsen mit Größen von 5 bis 50 Mikrometer, die eine genaue und effiziente Anwendung von Photolack ermöglichen. Die Düsenanordnung der Maschine gewährleistet ein minimiertes Materialungleichgewicht und die überlegene Formbildung im Strukturierungsprozess, was zu höheren Ausbeuten führt. SEMITOOL 260 enthält ein hochauflösendes Musterwerkzeug zur präzisen Musterübertragung. Diese Anlage verfügt über ein breites Muster parametrisches Fenster, hohe Geschwindigkeit Musterung und integrierte programmierbare Muster Layout. Seine leistungsstarke motorisierte Ausrichtung und Positionierung ermöglicht präzise Musterkontrolle und Musterplatzierung Genauigkeit. Darüber hinaus bietet die automatisierte Laserscanner-Konfiguration überlegene Genauigkeit, Wiederholgenauigkeit und Zuverlässigkeit bei präziser Wafer- und Düsenausrichtung. Ein weiteres Hauptmerkmal von 260 ist sein Qualitätskontrollmodell. Dieses Gerät ist mit einer umfassenden Reihe von Sensoren ausgestattet, einschließlich hochauflösender CCD-Kameras, Laserscannern und 3D-topologischen Profilmikroskopen, um die höchste Gerätequalität zu gewährleisten. Die integrierte Messsoftware ermöglicht mit ihrer 3D-Topographie-Kartierung und Multi-Sensor-Autokorrektur eine präzise und wiederholbare Prozesssteuerung mit nachvollziehbaren Ergebnissen. SEMITOOL 260 bietet zudem flexible Verarbeitungsfunktionen mit seiner Prozessmodulflexibilität und benutzerfreundlicher Rezepteinrichtung und -steuerung. Das System ist auch für maximale Effizienz und Durchsatz ausgelegt, mit Funktionen wie schnelle Waferbelastung, Waferbedarfsbelastung und Hochleistungskammerbelastung. Insgesamt 260 ist eine zuverlässige und effiziente Einheit, die in der Lage ist, präzise und wiederholbare Photoresist-Anwendung, Musterung und Inspektion bereitzustellen, so dass es eine gute Wahl für die Herstellung von Geräten höchster Qualität ist.