Gebraucht SEMITOOL 260F #151781 zu verkaufen

SEMITOOL 260F Photoresist Equipment ist ein hochmoderner integrierter Spin Coater/Entwickler, der speziell für die Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es verfügt über eine drehbare und einziehbare Kammer, die ein Substrat mit einem maximalen 8-Zoll-Durchmesser aufnehmen kann. 260F kommt mit einem eingebauten Spin-Motor mit einstellbarer Drehzahl und Drehmoment, die präzise Kontrolle über Spin-Coating-Prozesse. Das System nutzt eine präzise Kontrolle über Zeit, Temperatur, Geschwindigkeit und Sprühdruck des Entwicklers. Die Temperaturregelung erfolgt durch präzise Pico-Temperature- Control™. Das Kammerdesign von SEMITOOL 260F umfasst eine automatisierte Aufzugseinheit, die es ermöglicht, mehrere Substrate schnell und effizient in großen Chargen zu spinnen und zu entwickeln. Die Maschine ist mit einem luftgekühlten Abgasanschluss zur effizienten Reinigung aller Dämpfe ausgestattet. 260F Photolackwerkzeug wird von einem eingebauten bürstenlosen Direktantriebsmotor angetrieben, der für jede Anwendung das optimale Drehmoment und die optimale Drehzahl bietet. Die Spin-Coating-Leistung wird durch eine fortschrittliche zweistufige Hebevorrichtung verbessert, die eine optimale Kontrolle über Benetzung, Nivellierung und Quetschung des Resists während der Spin-Coating-Prozesse ermöglicht. Das Modell verfügt zudem über automatisierte Sprühtechnologie und eine präzise Verteilung von Entwicklerchemikalien. Der Druck wird genau überwacht, so dass er je nach Bedarf erhöht oder abgesenkt werden kann, um den Substrat-, Resist- und Schicht-für-Schicht-Prozess anzupassen. SEMITOOL 260F ist mit einem hochauflösenden 16-Zoll-LCD-Display und Controller-Panel ausgestattet, das dem Benutzer eine visuelle Rückmeldung über den Zustand des Prozesses liefert. Das Gerät verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche und mehrere integrierte Komfortfunktionen, wodurch es einfach zu bedienen und intuitiv zu bedienen ist. 260F Photolacksystem ist eine hochmoderne Lösung für Spin-Coating und die Entwicklung von Anwendungen in der Halbleiterindustrie. Seine umfassende Lösung für präzises und automatisiertes Spin-Coating, Temperaturregelung und ein hohes Maß an Sicherheit macht es ideal für eine Vielzahl von Photolackprozessen. Die fortschrittliche zweistufige Hebeeinheit und die automatisierte Sprühtechnologie bieten die ultimative Kontrolle und Präzision im Spinn- und Entwicklungsbetrieb.