Gebraucht SEMITOOL 270 #200803 zu verkaufen

SEMITOOL 270
Hersteller
SEMITOOL
Modell
270
ID: 200803
Wafergröße: 4" or 6"
Spin Rinse Dryer (SRD), 4" or 6".
SEMITOOL 270 Photoresist Equipment kombiniert fortschrittliche nassreine Technologie mit einem fortschrittlichen LCD-Display, um beispiellose Leistung im Bereich der Photolithographie zu liefern. Dieses System wurde entwickelt, um unglaublich dünne Photolackschichten mit präziser Genauigkeit und Gleichmäßigkeit zu verarbeiten, sodass Hersteller Wafer mit sehr feinen Linienbreiten und -größen herstellen können. 270 Stück wird um ein nassreines Verfahren gebaut, das mit Lösungsmitteln Verunreinigungen schonend aus der Photolackschicht löst. Diese hocheffiziente Maschine reinigt automatisch das Substrat zwischen jedem aufeinanderfolgenden Zyklus, um sicherzustellen, dass der Photolack während des gesamten Betriebs stabil und gleichmäßig bleibt. Das LCD-Display ermöglicht es Benutzern, die genauen Dicken der Fotolacke während des gesamten Prozesses anzuzeigen und zu überwachen, was eine zusätzliche Steuerung ermöglicht. SEMITOOL 270 enthält auch eine Reihe fortschrittlicher Prozesse wie Kantenentfernung, Etchback und Backverstärkungen nach der Exposition. Die Entfernung von Kantenwulsten ist bei der Arbeit mit dem Fotolack besonders wichtig, da sie die Ungleichmäßigkeit entlang der Kanten des Substrats verhindert. Etchback wird durchgeführt, um unerwünschte Schichten selektiv von der Oberseite des Wafers zu entfernen. Schließlich wird die Nachbelichtungsbackphase verwendet, um die Photolacke besser mit dem Substrat zu verbinden, wodurch ein Abheben und andere Probleme vermieden werden. Insgesamt ist 270 Photoresist Tool eine ausgezeichnete Wahl für jede Einrichtung, die nach einer einfachen, zuverlässigen Methode der Lithographiebearbeitung sucht. Diese Ressource bietet Benutzern eine vollständige Kontrolle über die Dicke des Photolackes und gewährleistet so Gleichmäßigkeit und Genauigkeit. Mit seinen fortschrittlichen Prozessen und dem LCD-Display können Hersteller Wafer mit sehr feinen Linienbreiten und Funktionsgrößen herstellen. Dieses Modell ist zudem kostengünstig, mit geringen Betriebskosten und niedrigen Vorlaufkosten.
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