Gebraucht SEMITOOL 270 #77035 zu verkaufen

SEMITOOL 270 ist ein Photolacksystem zur Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es ist ein dediziertes System, das mehrere Prozessmodule verwendet, um präzise Photolithographie bereitzustellen. Sie umfasst einen Maskenausrichter, einen Applikator, eine Entwicklungsstation und eine Resistabstreifstation. Das Masken-Aligner-Modul bietet die Möglichkeit, Maske-zu-Wafer-Beziehungen zu steuern und eine genaue Musterregistrierung zu gewährleisten. Es verwendet eine optische Baugruppe, um Bildmuster auf ein mit Photolack beschichtetes Substrat zu projizieren, was zu einem Muster führt, das genau dem Design entspricht. Darüber hinaus bietet der Maskenausrichter eine Stufen- und Wiederholungsfähigkeit, wodurch mehrere Muster unterschiedlicher Formen und Größen auf einem einzigen Substrat platziert werden können. Der Photolackapplikator dient dazu, das Photolackmaterial in einer gleichmäßigen Schicht auf die Substratoberfläche abzugeben. Es verfügt über automatisierte Steuerung für gleichmäßige Filmdicke, erhöhten Durchsatz und verringerte optische Interferenz. Dieser Applikator kann auch zum Aufbringen mehrerer Schichten von Photolack oder zur Werbung für Musterschichten unterschiedlicher Schichtdicken verwendet werden. 270 enthält eine Entwicklungsstation, mit der der Photolack aus unbelichteten Bereichen entfernt werden kann. Seine hochauflösende Düse ist in der Lage, eine genaue und gerichtete chemische Ätzmuster, die die Zeit durch den Photolithographie-Prozess reduzieren kann. Es verfügt über eine digitale Pumpe für Hochgeschwindigkeitsbearbeitung und digitale Druckregelung für präzise Flüssigkeitszufuhr. Der entwickelte Photolack kann dann zur Bildung des gewünschten Musters auf die Oberfläche geätzt werden. Schließlich wird die Resist-Strippstation verwendet, um unbelichteten Photolack vom Substrat zu entfernen. Es ist wirksam bei der rückstandsfreien Entfernung von Negativton-Photoresists mit wiederholbaren Ergebnissen. Es Elektronenstrahl überwacht Wafer Reinigungsstation sorgt dafür, dass alle Photolack effektiv von der Oberfläche entfernt wird. SEMITOOL 270 bietet ein komplettes Photolacksystem, um die Herstellung von Halbleiterbauelementen zu erleichtern. Seine Eigenschaften sind so konzipiert, dass sie präzise und automatisierte Photolithographie für die Herstellung dieser Komponenten bieten. Seine Flexibilität und Bequemlichkeit ermöglichen eine effiziente Verarbeitung unterschiedlichster Substratmaterialien.