Gebraucht SEMITOOL 270 #9268578 zu verkaufen

SEMITOOL 270 Photoresist Equipment ist ein präzises, kostengünstiges, multifunktionales Werkzeug, das den Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird. Dieses System ermöglicht die volle Kontrolle des Photoresist-Prozesses, vom Laden von Photoresist-Wafern über die Entwicklung der Photoresist-Schichten bis hin zu komplizierten Schaltungsmustern. Das Gerät nutzt eine fortschrittliche Technologie namens MELZER, die präzise Mustergenauigkeit und hohe Durchsatzfähigkeit ermöglicht. Dies wird durch die Kombination von laserbasierter Bildgebung, Belichtungssystemen und optionaler Präzisionsmechanik erreicht. Diese Kombination führt zu beispielloser Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Der Kern von 270 Photoresist Machine ist das MELZER Lasermodul. Dieses Modul verwendet Laser und Optik, um Photolackschichten mit hoher Genauigkeit und Präzision zu belichten. Diese Technologie ist sehr flexibel und kann angepasst werden, um verschiedene Fotolackmaterialien und Wafergrößen unterzubringen. Darüber hinaus ist das Werkzeug mit einer Hochleistungslichtquelle ausgestattet, die schnelle Lithographiezeiten und kürzere Zykluszeiten ermöglicht. SEMITOOL 270 Photoresist Asset ist mit verschiedenen automatisierten Funktionen und Werkzeugen ausgestattet, um einen zuverlässigen und konsistenten Betrieb zu gewährleisten. Automatisierte Reinigungssysteme mit Nass-Trockenwäsche können die belichteten Photolackoberflächen schnell für die Entwicklung vorbereiten. Das Modell kann bis zu 10 verschiedene Entwicklerlösungen verwenden, die Flexibilität in verschiedenen Arten von Wafern und Anwendungen ermöglichen. Darüber hinaus ist die Anlage in der Lage, die Entwicklerlösungstemperatur automatisch zu steuern. Zusätzlich ermöglicht das in dieses System eingebaute fortschrittliche MELZER Lasermodul die Belichtung der Wafer mit vorgegebenen Mustern, die zur Ausrichtung und Herstellung komplizierter Schaltungsmuster verwendet werden können. 270 Photoresist Unit ist auch mit verschiedenen Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, um sicherzustellen, dass die Photoresist-Schichten nicht beschädigt werden. Eine breite Palette von optischen Linsen stehen zur Verfügung, um die Exposition zu reduzieren und konsistentere Ergebnisse zu liefern. Diese Linsen sind so ausgelegt, dass die Lichtmenge, die auf dem Wafer zurückreflektiert wird, minimiert wird, um das Auftreten von ungespeicherten Kanten zu verringern. Außerdem wurde die Maschine entwickelt, um die Belichtungszeit zu begrenzen und thermische Schäden an den Photolackschichten zu verhindern. Insgesamt ist SEMITOOL 270 Photoresist Tool ein ausgezeichnetes Werkzeug, mit dem hohe Präzision und Wiederholbarkeit auf kostengünstige Weise erreicht werden können. Dieses Asset kann die Herstellung komplizierter Muster ermöglichen, was eine erhöhte Flexibilität und höhere Funktionalität ermöglicht. Darüber hinaus tragen das Spektrum an Sicherheitsfunktionen und automatisierten Werkzeugen dazu bei, Fehler zu vermeiden und eine optimale Leistung zu erhalten. Mit all diesen Vorteilen ist 270 Photoresist Model die ideale Wahl für alle in der Halbleiterindustrie.