Gebraucht SEMITOOL 270F #151770 zu verkaufen

SEMITOOL 270F ist eine Photolackausrüstung, die hauptsächlich in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Dieses Werkzeug weist ein in sich geschlossenes Resistbearbeitungssystem mit einem Konvektionsbackmodul und einem Trockenbandmodul auf. Das Fördermodul in 270F bewegt Wafer nahtlos von Schritt zu Schritt und reduziert den manuellen Handhabungsbedarf der Wafer. Dieses Modul verwendet eine Sicherheitsklemmeinheit, die mögliche Schäden an den Schnittstellenwerkzeugen des Wafer-Handlers beseitigt. Das Backmodul besteht aus zwei Hochtemperaturkammern, einem Übertemperaturdetektor und Förderband. Die Temperatur der oberen und unteren Öfen kann unabhängig eingestellt und für eine optimale Verarbeitung programmiert werden und der integrierte Übertemperaturdetektor sorgt für Sicherheit und vermeidet Schäden. Das Dry Strip Modul von SEMITOOL 270F ist mit einer einzigen Low-Profile-Kassette ausgestattet, die bis zu 19 Wafer gleichzeitig aufnehmen kann. Diese Maschine bietet hohe Geschwindigkeit, einheitliche und gleichbleibende Bandqualität mit einer minimalen Expositionszeit für die raue chemische Umgebung. Das Bandmodul verfügt außerdem über ein Sicherheitsstreifengas und ein chemisches Detektionswerkzeug, das Personal und Ausrüstung vor unzulässigen Schäden schützt. 270F Anlage ist in einem reinraumkompatiblen Gehäuse untergebracht, das mit einem Drei-Positionen-Türschalter, einem programmierbaren Auspuffventilator und einer Batch Mate-Datenerfassung ausgestattet ist. Dieses Modell ermöglicht eine vollständige flexible Offline-Programmierung und Bewertung von Prozessrezepten und kann in die bestehende Automatisierungsumgebung des Kunden integriert werden. Darüber hinaus verfügt SEMITOOL 270F über integrierte Dienstleistungen für Kalibrierung, Wartung und Sicherheit. Insgesamt ist 270F ein fortschrittliches Photolacksystem, das entwickelt wurde, um eine überlegene Photolack- und Trockenstreifenverarbeitung für die Herstellung von Halbleitern bereitzustellen. Diese Einheit ermöglicht signifikante Ertrags-, Zuverlässigkeits- und Kosteneinsparungen durch verbesserte Prozesskontrolle und verbesserte Prozessleistung.