Gebraucht SEMITOOL 280 #9116704 zu verkaufen

SEMITOOL 280 ist eine Photolackausrüstung, die für fortgeschrittene Halbleiteranwendungen entwickelt wurde. Es bietet Werkzeuge und Technologien zur Herstellung von Wafermasken für die Lithographie und das Abscheiden von dünnen Filmen. Das System ist in der Lage, Substrate bis zu 8 Zoll Durchmesser zu handhaben und ist in der Lage, Silizium-, Germanium- und Galliumarsenid-Wafer mit der gleichen Präzision zu verarbeiten. Die Einheit besteht aus zwei Teilen: dem Resistprozessor und der Abscheidemaschine. Der Resistprozessor ist im Wesentlichen ein Spin-coater, Entsmearer und Ofen - alles in einem Werkzeug -, die reinigen, beschichten, backen, und Streifen Photoresist von Silizium-Wafern. Der Resistprozessor ist automatisiert und in das Abscheidewerkzeug integriert, das eine präzise Steuerung der Abscheidung von dünnen Folien ermöglicht, die für auf Waferoberflächen aufgebaute Strukturen verwendet werden. 280 ist für die Produktion mit hohem Durchsatz ausgelegt und bietet eine unübertroffene Gleichmäßigkeit der Foliendicke. Das Asset verwendet fortschrittliche Bewegungssteuerungstechniken, um eine gleichmäßige Abdeckung des Wafers zu gewährleisten. Die Software zur Steuerung des Modells ermöglicht die Steuerung von Substratrotation, Dotierstoffkonzentration, Beschichtungsstrom und anderen Parametern, die für eine präzise Abscheidungssteuerung entscheidend sind. Die Ausrüstung ist mit einer Reihe von Optionen gebaut, die eine einfache Anpassung für bestimmte Anwendungen ermöglichen. Es ist in der Lage, fortschrittliche Prozesse wie E-Strahl/thermisch/optische Lithographie, Atomschichtabscheidung, Clustering und Nasschemie. Darüber hinaus wird es durch eine integrierte Offline-Prozesskontrolle unterstützt, um sicherzustellen, dass alle erforderlichen Tests und Messungen vor dem Versand abgeschlossen und verifiziert werden. SEMITOOL 280 eignet sich gut für High-End-Halbleiterbauelemente und ist eine zuverlässige Wahl für die Serienproduktion. Sein automatisiertes System ermöglicht es den Betreibern, Fehler und Verschwendung zu minimieren, da es alle Aspekte des Abscheidungsprozesses genau kontrolliert. Die Einheit bietet eine optimale Waferbearbeitung mit konsistenten Ergebnissen, die durch eine fortschrittliche Bewegungssteuerung erzielt werden und eine unübertroffene Gleichmäßigkeit der Foliendicke gewährleisten. Dies macht die Maschine hocheffizient und kostengünstig für den Einsatz in der High-End-Produktion.