Gebraucht SEMITOOL 280F #9105785 zu verkaufen

SEMITOOL 280F ist eine Photoresist-Ausrüstung für das chemisch-mechanische Polieren (CMP), die Planarisierung von Wafern und die Nassätzreinigung nach dem CMP. Die erweiterten Funktionen und Software des Systems bieten Anwendern eine einfache Bedienung und konsistente Prozessleistung. Das Gerät ist mit einer präzisen, langlebigen Kompositkolbenausgabemaschine für eine Vielzahl von Fotolackmaterialien ausgestattet. Es verfügt auch über ein verriegeltes Türwerkzeug für sichere Wartung und Betrieb, eine kalibrierte Sub-Umgebungs-Plenumkammer zur Temperaturregelung des Prozesses, und einen Bordcomputer für Point-of-Use-Steuerung und Datenerfassung. 280F Asset verfügt über ein ergonomisches Design für einfache Wartung und einfache Werkzeugkalibrierung. Der modulare Aufbau des Modells ermöglicht es Benutzern, die Konfiguration einfach zu erweitern, um den sich ändernden Anforderungen gerecht zu werden. Es umfasst auch standard- und feldautomatisierte Sicherheitsmaßnahmen wie eine gefährliche Materialmanagementausrüstung, eine versiegelte Umgebung zur Beseitigung von Staub und Partikeln in der Luft sowie eine Stickstoff-Reinigungsfähigkeit zur Erhöhung der Systemsicherheit. SEMITOOL 280F bietet eine breite Palette von Funktionen und Optionen für manuelle, halbautomatische und vollautomatisierte CMP-Prozesse. Das Gerät verfügt über eine hocheffiziente Materialpumpe, die Chemikalien mit einer festen Geschwindigkeit, eine Temperaturregelung für die Materialförderung und ein einstellbares Drehzahlband zur präzisen Steuerung des Substratstapels liefert. Darüber hinaus unterstützt es vornasse/nachgespülte Waferreinigungsoperationen. Die Maschine beinhaltet auch eine automatische Füllstation für einfache Tankfüllung und ein Wafer-Tracking-Tool, um eine präzise Wafer-Handhabung zu gewährleisten. 280F Asset bietet auch eine marktführende Modell-Upgrade-Option. Mit dem Upgrade können Anwender auf erweiterte Funktionen wie einen integrierten optischen Sensor zur Wafer-Erkennung und Durchflussmengenregelung zugreifen. Darüber hinaus bietet das Gerät benutzerfreundliche grafische Benutzeroberflächen (GUI), softwarebasierte Prozesseinrichtung und -optimierung sowie die Möglichkeit, mehrere Einheiten über einen Controller zu verknüpfen. Zusammenfassend bietet SEMITOOL 280F Photoresist-System Anwendern ein fortschrittliches, ergonomisches und sicheres Design mit einer Vielzahl von Funktionen und Optionen für manuelle, halbautomatisierte und vollautomatisierte CMP-Prozesse. Es verfügt über eine hocheffiziente, präzise Materialpumpe, eine Temperaturregelung für die Materialförderung, ein einstellbares Drehzahlband für eine präzise Substratbewegung und einen integrierten optischen Sensor und eine Durchflussmengenregelung für eine verbesserte Leistung der Einheit. Die Maschine bietet auch benutzerfreundliche GUI, softwarebasierte Prozesseinrichtung und -optimierung sowie die Möglichkeit, mehrere Einheiten über einen Controller zu verknüpfen.