Gebraucht SEMITOOL 280S #9123938 zu verkaufen
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ID: 9123938
Wafergröße: 4"-8"
Semi-automatic prober, 4"-8"
4-Point prober
Wafer capabilities: 1 and 5
X-Y Point measurment
Rotational stage
P and N Type.
SEMITOOL 280S Photoresist Equipment ist eine fortschrittliche Plattform, die für das hochauflösende Ätzen und Ionenstrahlätzen von Oberflächen bei niedrigeren Temperaturen optimiert ist. Es bietet Benutzern eine Reihe von erweiterten Funktionen, um die Leistung und Genauigkeit der Verarbeitung von Funktionen mit hoher Genauigkeit zu verbessern. 280S Photoresist System ist auf einer Vakuumverarbeitungskammer aufgebaut, die mit einer Multi-Chamber Resistance Chromatography (MCR) Ionenstrahl-Abscheidungseinheit ausgestattet ist. Dies ermöglicht die Herstellung außergewöhnlich dünner, hochauflösender Filme mit gleichmäßiger morphologischer Abdeckung und ausgezeichneter Qualität. Der MCR wird verwendet, um sicherzustellen, dass der Prozess stabil, wiederholbar ist und dass die Foliendicke genau kontrolliert werden kann. SEMITOOL 280S ist auch mit einer Reihe von Software, Controllern und Treibern ausgestattet, um die volle Steuerung des Ionenstroms und variierender Ionenenergien sowie eine Reihe optisch unterstützter Elektrodensteuerung zu gewährleisten. Dies ermöglicht die präzise Ausrichtung von Mehrschichtstrukturen und die genaue Ätzung von Merkmalsgrößen. Die Maschine hat eine breite Palette von Temperatur- und Druckeinstellungen, von einem Tief von 1,1 bar und 200 ° C bis zu einem Hoch von 13 mbar und bis zu 400 ° C. Dadurch kann das Werkzeug in einer Vielzahl unterschiedlicher Anwendungen arbeiten, einschließlich derjenigen, die beim Ätzen eine höhere Temperatur erfordern. 280S bietet auch eine minimierte Partikelerzeugung und Oxidation, die die Qualität der bearbeiteten Oberflächen verbessern kann. SEMITOOL 280S profitiert von einer Reihe von Zellen, die dazu beitragen, die Anzahl der Verunreinigungen zu reduzieren, die während des Ätzens in der Kammer vorhanden sein können. Dies bietet Benutzern eine zuverlässigere Reinraumumgebung und ermöglicht gleichzeitig eine bessere Kontrolle über die freiliegenden Funktionen. Darüber hinaus verfügt die Anlage über eine Reihe einfach zu bedienender Wartungsfunktionen, die zur Verbesserung der Wartungsfreundlichkeit beitragen. Abschließend ist 280S Photoresist Model eine fortschrittliche Plattform, die für das hochauflösende Ätzen und Ionenstrahlätzen von Oberflächen bei niedrigeren Temperaturen optimiert ist. Seine breite Palette an Temperatur- und Druckeinstellungen, MCR-Ionenstrahl-Abscheidungsgeräte, optisch unterstützte Elektrodensteuerung und Zellen, die zur Verringerung der Kammerkontamination entwickelt wurden, machen es ideal für die Herstellung hochwertiger, präzise geätzter Funktionen.
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