Gebraucht SEMITOOL 280S #9255444 zu verkaufen

SEMITOOL 280S ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für Wafer-Herstellungsprozesse entwickelt wurde. Das System kann zur Belichtung und Entwicklung chemisch verstärkter Photolacke eingesetzt werden und eignet sich ideal für Lithographieverfahren mit engen Tonhöhen und Linienbreiten. Das Gerät ist für HDRIP (High Density Release Imprinting) -Prozesse optimiert, die hochpräzise Resistprofile mit einer hohen Auflösung von 0,5 Mikrometern liefern können. Die Maschine verfügt über eine ausgeklügelte UV-Kamera, die zur kontinuierlichen Überwachung und Auswertung des Lithographieprozesses in die Prozesssteuerung integriert werden kann. Das Werkzeug verfügt über eine optische Baugruppe mit zwei Linsen und einer Kondensatorlinsenanordnung. Die optische Baugruppe wird auf eine präzise hochauflösende Positionierstufe montiert, die eine hohe Genauigkeit in XY-Richtung ermöglicht. Die Bühne ist auch in der Z-Achse programmierbar, was eine präzise Ausrichtung der Maske und der unteren Linsen sowie eine Fokusregelung ermöglicht. Darüber hinaus verfügt die Anlage über eine vollautomatische Maskenkassette zum Be- und Entladen von Masken und Substraten sowie ein Substratausrichtungsmodul, das eine präzise Positions- und Orientierungseinstellung für die Genauigkeit ermöglicht. Darüber hinaus verfügt es über eine automatische Substrat-Offload-Funktion und Roboter-Wafer-Handhabung mit Barcode-Lesung. Das Photoresist-Entwicklungsmodell verwendet ein Batch-Verarbeitungsverfahren und ist ein Einzelkammerdesign für die Photoresist-Verarbeitung, das eine Vielzahl verfügbarer Rezepteinstellungen ermöglicht, die auf die entsprechende Resistchemie zugeschnitten sind. Das Gerät verfügt über ein Standard-Sogglitursystem, das über eine Reinigungsvergasungseinheit, eine Dünnschichtmessmaschine und einstellbare Temperatur- und Druckeinstellungen für eine präzise Schläfrigkeitsentwicklung verfügt. Zusätzlich zu herkömmlichen Lithographie- und Schlankheitssystemen verfügt 280S über ein BARC-Modul (Bottom Anti-Reflective Coating), das zur Abscheidung von Antireflexschichten auf der Unterseite des Wafers verwendet werden kann, um die Oberflächenreflexion zu reduzieren und die Leistung zu verbessern. Das Werkzeug kann auch für Nachentwicklungsbehandlungen wie Backen, Sogginess-Entfernung und Sauerstoff- oder Stickstoffglühung verwendet werden. Das Softwaresteuerungsmodell des Asset ermöglicht es Benutzern, Entwicklungsrezepte anzupassen und den gesamten Prozess zu überwachen. Es verfügt auch über eine Ferndiagnose- und Reparaturausrüstung, auf die von jedem internetfähigen Computer aus zugegriffen werden kann, um Probleme zu diagnostizieren und eine Fernwartung durchzuführen. Der gesamte Prozess kann über eine einfache grafische Benutzeroberfläche gesteuert und überwacht werden. Insgesamt ist SEMITOOL 280S ein leistungsfähiges und leistungsfähiges Photolacksystem, das in der Lage ist, qualitativ hochwertige Lithographie mit präziser Fokusregelung im Bereich von 0,5 Mikrometer zu erzeugen. Es verfügt über eine hochentwickelte automatisierte Wafer-Handhabungseinheit und eine ausgeklügelte UV-Kamera zur Prozessüberwachung und -bewertung. Die Maschine kann auch für Behandlungen nach der Entwicklung, wie sogginess Entfernung, Backen und Glühen verwendet werden. Darüber hinaus verfügt es über ein modulares Software-Tool, das angepasst werden kann, um Ergebnisse für spezifische Resistchemien zu optimieren.