Gebraucht SEMITOOL 4300S #25304 zu verkaufen

SEMITOOL 4300S ist eine Photolackausrüstung für die Halbleiterindustrie. Es ist eine vollautomatische Plattform, mit der Dünnschicht-Fotoresists genau und präzise auf Wafern abgelegt werden. Das Photoresist System (PRS) ist eine flexible und benutzerfreundliche Einheit, die präzise und zuverlässige Leistung ermöglicht. Die Maschine verwendet eine fortschrittliche Resistbildgebungseinheit, die eine Vielzahl von Düsen verwendet, um eine hochpräzise, gleichmäßige und homogene Wirbelabscheidung zu ermöglichen. Der Wirbelstrahl wird gerührt, um eine gleichmäßige, konsistente Tröpfchengröße und -form zu gewährleisten. Dies gewährleistet eine präzise und wiederholbare Beschichtung selbst der empfindlichsten Photoresists. Die präzise und stabile Abscheiderate sorgt dafür, dass die Photolackschicht sowohl auf der Vorder- als auch auf der Rückseite des Wafers eine gleichmäßige Dicke aufweist. Das Werkzeug verfügt über eine leistungsstarke Präzisionslichtquelle mit integrierter Mehrschichtmaske und Optik, die eine präzise Strukturierung der Fotolackschicht ermöglicht. Sowohl harte als auch weiche Filter stehen zur Verfügung, um eine genaue Belichtung des Fotolacks zu gewährleisten. Das zum Patent angemeldete fortschrittliche Düsendesign und die dynamische Luftströmungstechnologie ermöglichen präzise und wiederholbare Nachbelichtungsbacken (PEB), wodurch häufige Waferprobleme wie Kleben und Delaminieren verhindert werden. SEMITOOL 4300 S kommt auch mit einem integrierten Bildschirmanalyse-Asset. Diese erweiterte Funktion ermöglicht eine effiziente Abschirmung der Photolackschicht, um eine gleichmäßige Abscheidung und Belichtung zu gewährleisten. Die Technologie beinhaltet die Verwendung von nichtinvasiven Scans auf den Waferoberflächen, die eine Detektion kleiner Variationen in den Photoresistschichten ermöglichen. 4300S ist auf maximale Anwenderflexibilität und Zuverlässigkeit ausgelegt. Dies ermöglicht die schnelle Einrichtung, Reinigung und Wartung des Modells und ermöglicht so eine Vielzahl von Prozessanpassungen und Modifikationen. Diese fortschrittliche Photolackausrüstung bietet eine effiziente und präzise Lösung für jeden Photolackabscheidungsprozess in der Halbleiterindustrie.