Gebraucht SEMITOOL 4300S #71200 zu verkaufen
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ID: 71200
Wafergröße: 12"
Spin rinse dryer, 12"
102 Controller
Digital
Programmable
Non-contact labyrinth rear bowl shaft seal
Static eliminator assembly
Resistivity
RA-10 Bowl finish
Rotor quick disconnect
Brush-less motor with motor controller
Polypropylene cabinet: Aero style
Guaranteed particle counts: < 50 at .3 Micron
Used 17 meg Ohm DI water and class 1 N2.
SEMITOOL 4300S ist eine Photoresist-Beschichtungs- und Entwicklungsausrüstung, die fortschrittliche, spezialisierte Technologie verwendet, um die höchste Auflösung und die kleinste erreichbare Merkmalsgröße zu erreichen. Sie eignet sich hervorragend zur Herstellung von Halbleiterbauelementen, insbesondere für sehr feine Linienbreiten. Das System ist mit zwei Standard-Aufdampfkammern sowie mehreren Anschlüssen zum Anschluss von externen Geräten, wie einem nachgeschalteten Backofen oder zusätzlichen Aufdampfkammern ausgestattet. Bis zu vier zusätzliche Pods können hinzugefügt werden, um dem Gerät insgesamt sechs Kammern zu geben. Dadurch können verschiedene Oberflächengrößen beschichtet werden. Die Maschine verfügt außerdem über zwei Wafertransportsysteme mit zwei unabhängigen bürstenlosen Linearmotoren zur präzisen Positionierung von Wafern innerhalb der Kammern. Das Tool verwendet eine automatisierte Software-Steuerung mit einer webbasierten Benutzeroberfläche. Dies ermöglicht es Benutzern, das Modell von jedem Internet-verbundenen Gerät aus zu steuern, und ermöglicht auch die Fernüberwachung und -steuerung. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine erweiterte Datenerfassungs- und Berichtssoftware, mit der Benutzer jeden Waferprozess umfassend analysieren können. Für Substratheizung umfasst das System sowohl vormontierte Heizelemente als auch Halogenlampen, die eine präzise Regelung der Temperatur und der Heizraten ermöglichen. Sobald sich ein Wafer in der Kammer befindet, wird im Spin-Coating-Verfahren eine Photolackbeschichtung aufgebracht. Anschließend wird ein Probensubstrat auf den Spinnkopf geladen und mit dem Photolack spinnbeschichtet. Es folgt ein mehrstufiges Entwicklungsverfahren, bei dem der belichtete Photolack mit einem Entwickler oder Ätzmittel entfernt wird. Nach der Entwicklung wird der verbleibende Photolack mit einem sauberen Lösungsmittel vom Substrat entfernt. Für erhöhte Auflösung und kleinere Funktionsgröße kann das Gerät in Verbindung mit zweistufigen zweistufigen COBEX-Prozessen verwendet werden. Diese besteht aus einem ersten langfristigen Spin-Level-Prozess, der für eine hohe Auflösung optimiert wurde, gefolgt von einem kurzfristigen Spin-Level-Prozess zur Feature-Miniaturisierung. Abschließend ist SEMITOOL 4300 S eine leistungsstarke Photolackbeschichtungs- und Entwicklungsmaschine, die den Anforderungen der High-End-Halbleiterbauelementherstellung gerecht wird. Das erweiterte Feature-Set und das automatisierte Steuerungstool bieten Anwendern eine erstklassige Auflösung, Miniaturisierungsfunktionen und eine benutzerfreundliche Bedienung.
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