Gebraucht SEMITOOL 460F #151780 zu verkaufen

SEMITOOL 460F
Hersteller
SEMITOOL
Modell
460F
ID: 151780
Wafergröße: Up to 5"
Spin rinse dryer, up to 5".
SEMITOOL 460F Photoresist Equipment ist eine vollautomatische, frontseitige chemische Naßstation zur Verarbeitung von Halbleiterwafern bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen. Das System wurde entwickelt, um überlegene chemische Gleichmäßigkeit, Flexibilität und Genauigkeit im Photoresist-Beschichtungsprozess zu bieten. 460F verfügt über einen integrierten Waferlader und Waferentlader, der in der Lage ist, eine breite Palette von Wafersubstraten zu handhaben, einschließlich 4-Zoll und 6-Zoll-Wafern in Standard- und Bare-Back-Konfigurationen. Das Be- und Entladen des Wafers erfolgt mit einem Roboterarm, um höchste Qualitätsergebnisse zu gewährleisten. Die Einheit kann konfiguriert werden, um bis zu acht Wafer pro Zyklus mit einer Ladezeit zu verarbeiten, die von 20 Minuten bis 6 Stunden einstellbar ist. Die Maschine ist mit präzisen chemischen Messtechnik-Kontrollen entworfen, um genaue und gleichmäßige Beschichtungsdicke zu gewährleisten. Das Werkzeug ist mit einem fortschrittlichen chemischen Dispense-Controller ausgestattet, der die Abgabegeschwindigkeit jeder Photoresist und chemischen Abgabe überwacht und aufzeichnet. SEMITOOL 460F asset ist in der Lage, ein einheitliches Ausgabe- und Beschichtungsprofil zu schaffen, das nach vorgegebenen Rezeptparametern programmiert werden kann. 460F Modell ist auch mit einer selbstdiagnostischen Testfunktion und einem Alarmprotokoll ausgestattet, die eine einfache Überwachung und Wartung der Geräte sowie eine Fehlererkennung ermöglichen. Darüber hinaus umfasst das System eine Temperaturregeleinheit mit einem Kühlturm, um die Temperaturstabilität innerhalb der Wafer-Prozesskammer aufrechtzuerhalten und ein Bild des Photolacks in höherer Auflösung zu ermöglichen. SEMITOOL 460F Photoresist Machine ist eine ideale Wahl für Halbleiterlabore und Forschungseinrichtungen, die eine zuverlässige und effiziente Bearbeitung ihrer Wafer benötigen. Das Werkzeug wurde entwickelt, um überlegene chemische Gleichmäßigkeit und genaue Photolackbeschichtungen zu bieten und gleichzeitig eine einfache Wartung und effektive Diagnose zu ermöglichen. 460F Asset ist die perfekte Wahl für die Forschungslabore und Produktionsanlagen, die eine qualitativ hochwertige Lösung für ihre Photoresist-Verarbeitung benötigen.
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