Gebraucht SEMITOOL 460S #151779 zu verkaufen

SEMITOOL 460S Photoresist Equipment ist ein vollautomatisches chemisch-mechanisches Planarisierungssystem (CMP), das zur chemischen/mechanischen Verarbeitung von Substraten entwickelt wurde. Es ist mit Präzisionsscheibenträgern und automatisierten Reinigungs-, Vorreinigungs-, CMP-, Nachreinigungs- und Trocknungsmodulen ausgestattet. Die benutzerfreundliche grafische Oberfläche ermöglicht eine einfache Prozessoptimierung und -einrichtung. 460S ist mit einem Sechs-Taschen-Lauf zur Bearbeitung von Substraten bis 8 "Durchmesser ausgestattet. Die CMP-Köpfe sind mit Luftlagerkissen aufgehängt, wodurch eine gleichmäßige Druckverteilung über die gesamte Oberfläche des Wafers möglich ist. Der Waferträger wird durch ein Prozessgehäuse vor chemischen/Substratwechselwirkungen geschützt, das zwischen jedem Schritt umgekehrt wird, um die höchste Prozesskonsistenz zu erhalten. Die CMP-Köpfe sind mit einem abnehmbaren Hartmetallblock ausgebildet, um den Spalt zwischen Wafer und Kopf einzustellen. SEMITOOL 460S Photoresist Unit verfügt über ein einstellbares Maschinensteuerprogramm, das benutzerdefinierte Scheuergeschwindigkeiten, Drücke und CMP-Kopfgeschwindigkeiten ermöglicht. Die Einheit verfügt außerdem über einen festen Kammerdruck, der zwischen 0,3 psi und 0,6 psi liegt und eine Wafer-zu-Substrat-Konsistenz ermöglicht. Das Tool ist in der Lage, Prozessdaten wie Vermögensdruck, Speichervolumen und Pumpendrehzahl zu messen und zu überwachen und liefert Echtzeitergebnisse. Die einzigartige Dual-Dithering-Reinigungstechnik sorgt für hochwertige CMP-Ergebnisse und die Gleichmäßigkeit des Polierprozesses. Die benutzerfreundliche grafische Oberfläche ermöglicht eine einfache Prozessplanung und -optimierung. Darüber hinaus umfasst das Modell einen integrierten Automatisierungscontroller, ein PC-Softwarepaket und eine umfassende Bibliothek mit herunterladbaren Rezepten. 460S Photoresist Equipment wurde entwickelt, um die Betriebskosten durch maximale Produktivität und hochpräzise CMP-Ergebnisse zu senken. Es ist eine ideale Lösung für Anwendungen in der Halbleiter-, MEM- und MEMS-basierten Geräteherstellung. Das System ist in der Lage, eine breite Palette von Substraten und Materialien zu verarbeiten, so dass es eine ideale Wahl für viele Serienanwendungen ist.