Gebraucht SEMITOOL 460S #9229852 zu verkaufen

SEMITOOL 460S
Hersteller
SEMITOOL
Modell
460S
ID: 9229852
Wafergröße: 5"
Spin Rinse Dryer (SRD), 5".
SEMITOOL 460S Photoresist Equipment ist ein automatisiertes Werkzeug für Nassverarbeitungsanwendungen in der Halbleiterindustrie. Es ist in der Lage, eine Vielzahl von Photolackmaterialien, einschließlich positiver und negativer Formulierungsresiste, und photodefinierbare Polymere zu handhaben. Das Gerät verfügt über ein ProFlex™ II Liquid Module, das eine Eintank-Immersions-Lithographielösung für die Waferbearbeitung bietet. Es verwendet auch fortschrittliche Sicherheitsfunktionen und Prozesskontrolltechnologie, um einen zuverlässigen und wiederholbaren Prozess zu gewährleisten. 460S ist mit einem leistungsstarken Mustergenerator ausgestattet, der in der Lage ist, abwechslungsreiche Photoresist-Rezepte zu erzeugen und für den zukünftigen Einsatz im Speicher zu halten. Darüber hinaus ist es dank seiner Vierscheiben-Dual-Lane-Technologie in der Lage, mehrere simultane Prozesse mit bis zu vier verschiedenen Wafertypen durchzuführen. Dies erleichtert einen hochautomatisierten Prozess, der einen schnelleren Durchsatz und verbesserte Wafererträge ermöglicht. SEMITOOL 460S System verfügt über zwei separate Prozesskammern, die Develop Chamber und die Strip Chamber. Beide Kammern verwenden vollständig temperaturgesteuerte, rezirkulierende Bäder, die sicherstellen, dass der Photolack der Belichtung widersteht und während des gesamten Prozesses ein konsistentes Temperaturniveau aufrechterhält. Darüber hinaus verhindert die Kammerkonstruktion Kreuzkontaminationen zwischen den beiden Kammern, indem das Potenzial für gewaschene Wafer Spritzlösung über Trennwände entfernt wird. 460S enthält auch eine Reihe optionaler Zubehörteile, wie ein Shadow Mask Module, das eine schnelle und präzise Platzierung von Photolackmustern auf Wafern ermöglicht, und eine Basket Transfer Station, die das isolierte Pumpen von Kassetten und Böden ermöglicht. Das Gerät umfasst auch fortschrittliche Prozesssteuerungssoftware, um die Bedingungen während des gesamten Prozesses zu überwachen und aufzuzeichnen. Schließlich verfügt das Gerät über eine Vielzahl von Leistungsstufen, um eine optimale Nassverarbeitung aller Photolackmaterialien zu gewährleisten. Zusammenfassend ist SEMITOOL 460S Photoresist Machine ein fortschrittliches Werkzeug, das entwickelt wurde, um eine automatisierte Nassbearbeitung einer Vielzahl positiver und negativer Photoresist-Materialien bereitzustellen. Es verfügt über fortschrittliche Prozesssteuerungssoftware, Umlaufbäder für konsistente Temperaturen und verschiedene zusätzliche Funktionen und Zubehör, um einen zuverlässigen und wiederholbaren Prozess zu gewährleisten.
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