Gebraucht SEMITOOL 470F #151769 zu verkaufen

SEMITOOL 470F Photoresist Equipment ist eine automatisierte Lösung zur Beschichtung, Entwicklung und Reinigung von Wafern in der Halbleiterindustrie. Sein fortschrittliches Design ermöglicht eine höhere Präzision und Wiederholbarkeit bei Waferbearbeitungsvorgängen, einschließlich Trockenfilm- und Nassfilmoperationen. Das System wurde entwickelt, um Photoresists auf ein- und zweiseitige Wafer aufzubringen. Photoresists sind ein organisches Polymermaterial, das gleichmäßig und lichtempfindlich ist und in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Die Anwendung eines Photolacks auf einem Wafer hilft dabei, für jedes Bauelement Merkmale zu schaffen, die die Herstellung von Feinabstand-Halbleiterbauelementen ermöglichen. 470F besteht aus mehreren Modulen, die über die Waferprozesslinie integriert sind. Dazu gehören der Automatic Wafer Loader (AWL), der Wafertransport und verschiedene Prozessmodule wie Spin Coater, Spinner, Developer, Cassette Cleaner und Hot Slot. Der Automatic Wafer Loader (AWL) ermöglicht eine zuverlässige und genaue Positionierung und Übertragung von Wafern zum und vom Gerät. Darüber hinaus ermöglicht die AWL die Kassettenmontage an einer kompatiblen Schnittstelle, die eine effiziente und zuverlässige Kassetten-zu-Kassetten-Übertragung ermöglicht. Das Wafertransportmodul bietet eine komplette Transport- und Bewegungssteuerung, während eine rekonfigurierbare Transportstrecke durch eine komplette geschlossene Bewegungssteuerung und Datenerfassungsmaschine erreicht wird. Die Prozessmodule ermöglichen das Aufbringen des Photolacks auf den Wafer. Der Spin Coater wird verwendet, um bei hohen Geschwindigkeiten gleichmäßige Beschichtungen auf dem Wafer zu erzeugen. Der Spinner dient zur Entwicklung des Photolacks auf dem Wafer, zur Entfernung überschüssigen Photolacks und zur Entfernung von Rückständen. Das Entwicklermodul dient zum Entfernen des unerwünschten Photolacks vor dem Ätzen oder Erstellen der Schaltungsmuster. Der Cassette Cleaner wird verwendet, um den Wafer während des Betriebs durch Sprühen von Reinigungslösungen zu reinigen. Der Hot Slot wird zum Trocknen des Photolacks verwendet. Abschließend ist SEMITOOL 470F Photoresist Tool eine umfassende automatisierte Lösung für die Beschichtung, Entwicklung und Reinigung von Wafern, die in der Halbleiterindustrie eingesetzt werden. Die integrierten Module und das fortschrittliche Design ermöglichen eine höhere Genauigkeit und Wiederholbarkeit in Waferbearbeitungsvorgängen.