Gebraucht SEMITOOL 470S #9254338 zu verkaufen

Hersteller
SEMITOOL
Modell
470S
ID: 9254338
Spin Rinse Dryer (SRD).
SEMITOOL 470S Photoresist Equipment ist eine leistungsstarke, automatisierte Nassbank, die für den Einsatz in photolithographischen Prozessen bei der Herstellung integrierter Halbleiterschaltungen entwickelt wurde. Das System kann fortschrittliche Verarbeitung von Photolackmaterialien auf Halbleiterscheiben verschiedener Größen von 200mm bis 500mm mit dielektrischer und Metallabscheidung anwenden. Das Gerät verfügt über einen automatisierten Förderer, der Wafer zwischen Bearbeitungsschritten, einer mehrzonigen temperaturgesteuerten Nassbank und einer anspruchsvollen softwarebasierten Rezeptsteuerungsmaschine transportiert. Diese Kombination von erweiterten Funktionen ermöglicht es dem Werkzeug, gleichmäßig bearbeitete Photolackschicht auf Wafern ohne manuellen Eingriff zu produzieren. SEMITOOL 470 S wurde entwickelt, um fortschrittliche Photolackmaterialien abzuscheiden, die den Deckschichtresist beseitigen, eine antireflektierende Beschichtung (ARC) bilden, eine neue Photolackschicht aufbauen oder bestehende beschädigte oder defekte Schichten ersetzen und die Dicke des Photolacks erhöhen oder verringern. Diese fortschrittliche Anlage bietet hohe Durchsatzleistung und zuverlässige Waferreinigung, kritische Faktoren in der Halbleiterherstellung. Das Modell beinhaltet Lösungen für die Verarbeitung von LOR5, LOR6 und LOR7 Photoresists, die Variationen bei der Vorkonditionierung des Prozessmoduls und der Gestaltung der Nassbänke ermöglichen. Die Steuerung der 470S erfolgt I/O-gesteuert durch eine Bedienungsplattform, die eine einfache Einrichtung und Anpassung der Prozessparameter ermöglicht. Das System ist auch in der Lage, den Waferprozess Schritt für Schritt zu überwachen, um genaue und zuverlässige Ergebnisse zu liefern. Zusätzlich zu den genannten Merkmalen bietet 470 S einstellbare Reinigungsparameter und variablen Moduldruck, was eine verbesserte Wafer-Handhabung und eine bessere Kontrolle der Photolackqualität ermöglicht. Das Gerät wurde entwickelt, um Präzisionsausgabewerkzeuge zu verwenden, die die Präzision während des Photolackschichtprozesses erhöhen. Diese Funktionen, kombiniert mit seiner fortschrittlichen softwarebasierten Rezeptsteuerungsmaschine, ermöglichen SEMITOOL 470S ein hervorragendes Photolackverfahren für eine Vielzahl von Halbleiteranwendungen.
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