Gebraucht SEMITOOL 480 #78271 zu verkaufen

SEMITOOL 480
Hersteller
SEMITOOL
Modell
480
ID: 78271
F-Style Spin rinser dryer, single stack with rotor Accommodates up to 8” low profile 101 Controllers, Digital Ferrofluidic Rear Bowl Shaft Seal Electropolished bowl Polypropylene Cabinet Aero Style Electropolished Bowl 1/2 HP Direct Drive Motor Rotor to accommodate low profile 8” A192-81M Static Eliminator Resistivity Complete Documentation Package Guaranteed Particle counts < 25 at .5 micron 17 meg Ohm DI water and class 1 N2.
SEMITOOL 480 ist eine Halbleiterwaferbearbeitungsmaschine auf Basis der Photoresist-Technologie. Es ist speziell für die Herstellung von Präzisions-Halbleiterbauelementen, wie integrierten Schaltungen und anderen mikroelektronischen Bauelementen, ausgelegt. Diese Anlage basiert auf dem Konzept der Photolithographie, einem wichtigen Schritt im Herstellungsprozess für integrierte Schaltungen. Das Photolithographieverfahren beinhaltet die Verwendung einer Lichtquelle, wie ultraviolette Strahlung, um ein Muster auf ein Substrat aus einer Photomaske zu übertragen. Das Muster wird dann mit einem Photolack entwickelt und mit einer geeigneten chemischen oder Plasmabehandlung weiter geätzt. 480 verwendet Photoresist-Technologie, um die präzise Entwicklung von Mustern auf dem Wafer mit ultravioletter Strahlung zu ermöglichen. Dieses System weist eine Elektronenstrahlquelle auf, mit der der Photolack auf dem Wafer belichtet wird, um das gewünschte Muster zu erzeugen. Darüber hinaus enthält die Einheit ein kritisches Abbildungsmodul (CIM), das ein genaues, hochauflösendes Bild der Fotomaske liefert. Dieses Bild wird dann als Referenz während der Photolithographie verwendet, um sicherzustellen, dass das richtige Muster belichtet, entwickelt und auf den Wafer geätzt wird. Für eine verbesserte Genauigkeit und Gleichmäßigkeit verfügt SEMITOOL 480 auch über eine programmierbare Kegeleinheit. Die Abschrägungseinheit kann zur Einstellung der Ätztiefe verwendet werden, um die Herstellung von integrierten Schaltungen mit sehr kleinen Eigenschaftsabmessungen zu erleichtern. Die Maschine umfasst auch eine Temperaturregeleinheit, mit der das Photolackmaterial während der Entwicklung auf der optimalen Temperatur gehalten wird. Darüber hinaus verfügt 480 über ein hochpräzises Musterausrichtungsmodul. Dieses Modul ermöglicht eine schnelle und genaue Ausrichtung der Fotomaske auf den Wafer, um eine genaue Musterbelichtung zu gewährleisten. Darüber hinaus umfasst das Tool fortschrittliche Software zur Überwachung und Steuerung des gesamten Herstellungsprozesses. Zusammenfassend ist SEMITOOL 480 eine fortschrittliche Photolackanlage, die speziell für die Herstellung hochpräziser Halbleiterbauelemente entwickelt wurde. Es verfügt über eine Elektronenstrahlquelle, eine programmierbare Abschrägungseinheit, eine Temperatursteuereinheit und ein Musterausrichtungsmodul, die alle eine überlegene Genauigkeit und Gleichmäßigkeit bei der Entwicklung von Mustern auf Wafern ermöglichen. Dieses Modell wird von umfassender Software zur Verwaltung und Steuerung des gesamten Fertigungsprozesses begleitet.
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