Gebraucht SEMITOOL 480S #135528 zu verkaufen

SEMITOOL 480 S ist eine Photoresist-Ausrüstung, die verwendet wird, um Wafer-Nassverarbeitungssystemoperationen innerhalb des Halbleiterherstellungsprozesses durchzuführen. Es verfügt über eine proprietäre, durchgängige Automatisierungslösung zum Reinigen, Ätzen, Strippen und Trocknen von Photolackschichten auf Halbleiterscheiben. 480 S ist entworfen, um bis zu 16 Wafer in jeder Charge genau und präzise zu verarbeiten. Es verwendet eine von oben nach unten mechanische Roboterspritze, um kleine Mengen von Photolackflüssigkeit auf die Waferoberfläche abzugeben. Dies ist eine umweltfreundliche Einheit, die flüssigen Abfall minimiert und die Prozessgleichförmigkeit maximiert. Die Maschine verfügt auch über ein verstellbares Ausgabeventil, das eine optimale und konsistente Dosierung von Photolack über die Waferoberfläche gewährleistet. Das Photoresist-Werkzeug ermöglicht auch eine effiziente und gleichmäßige Verteilung der Flüssigkeit durch Verwendung eines speziellen Sprühkrümmers und einer Düsenkombination. Dies führt zu einer überlegenen Gleichmäßigkeit des Photolacks über den Wafer und vermeidet Verschwendung von Photolack beim Aufbringen auf größere Düsenflächen. SEMITOOL 480 S verwendet auch eine spezielle Waschbewegung, die auf die Waferoberfläche angewendet wird, um die Anzahl der Defekte pro Wafer zu reduzieren. Zusätzlich ermöglicht eine kreisförmige Plattform eine kontinuierliche Drehung des Wafers während des Aufbringens von Photolack, was zu einer gleichmäßigen Beschichtung über den Wafer führt. Diese Anlage verfügt auch über eine Reihe von speziellen Heizungen und Thermoelementen, die die Wafertemperatur während des gesamten Photoresist-Anwendungsprozesses messen. Durch diese Überwachung wird gewährleistet, daß der Wafer auf einer konstanten Temperatur gehalten wird, was zu einer höheren Ausbeute und besserer Qualität der Photoresistschicht führt. Schließlich verfügt 480 S über einen automatisierten Trocknungsalgorithmus, der sicherstellt, dass der gesamte Photolack aus dem Wafer entfernt wird und eine saubere, hochauflösende Oberfläche hinterlässt. Der Trocknungsvorgang beseitigt eventuelle Oberflächenreste oder Partikel und vermeidet Schäden an der darunterliegenden Photoresistschicht.