Gebraucht SEMITOOL 480S #9229853 zu verkaufen

SEMITOOL 480S ist eine Photoresist-Ausrüstung, mit der Substrate mit Photolithographie gemustert werden. Das System ist für eine serienreiche Produktionsumgebung konzipiert und kann die Anforderungen für viele Advanced Integrated Circuit (IC) Anwendungen erfüllen. 480S verfügt über eine hochwertige, zweistrahlige Excimer-Belichtungseinheit. Diese Maschine verwendet einen Bereich von Wellenlängen, einschließlich 248 nm und 193 nm ultraviolette Strahlung, so dass der Benutzer die am besten geeigneten Belichtungsparameter für einen bestimmten Photoresist auswählen kann. Das Gerät enthält auch einen eingebauten Roboterarm zur präzisen Positionierung des Substrats während des Belichtungsprozesses. SEMITOOL 480S ist mit einer Niedertemperatur-Plasmakammer zur Plasmareinigung nach der Beschichtung ausgestattet. Diese Kammer ist für die Reinigung der Substrate vor dem Aufbringen des Photolacks ausgelegt, wodurch eine glatte und gleichmäßige Oberfläche für maximale Gleichmäßigkeit der Ergebnisse gewährleistet ist. Bei der Nachbeschichtungsplasmareinigung werden die Substrate bei niedrigeren Temperaturen als bei herkömmlichen Ätzverfahren einem ionisierten Gasgemisch ausgesetzt. Dadurch kann die Kammer die Oberfläche des Substrats reinigen, ohne beschädigen zu müssen. 480S ist mit einem hochauflösenden Kamerawerkzeug zur lithographischen Ausrichtung ausgestattet. Dieses Asset verwendet ein Array von CCD-Sensoren, um eine präzise und genaue Ausrichtung des Substrats auf das Belichtungsmuster zu ermöglichen. Das Modell verwendet außerdem zweidimensionale Ausrichtungs-KEs, um sicherzustellen, dass die Strukturierung des Substrats nicht verzerrt wird. SEMITOOL 480S enthält auch eine Spin-Etch-Einheit, die zum Abscheiden von Photolack auf das Substrat verwendet wird. Das Gerät ist in der Lage, Fotolack unterschiedlicher Dicke mit einer maximalen Dicke von 8,5 Mikron abzuscheiden. Nach der Abscheidung wird das Substrat einem nachtrocknenden Backprozess unterzogen, der die Haftung des Photolacks auf dem Substrat weiter verbessert. Schließlich kann 480S sowohl für das Vorbacken als auch für das Nachbacken des Substrats verwendet werden. Es wird vorgebacken, um die Oberflächenspannung des Substrats weiter zu reduzieren, was die Haftung des Photolacks erhöht und die Musterdefinition verbessert. Nach dem Nachbacken kann das Photolackmuster ausgehärtet und applikationsbereit sein. Insgesamt ist SEMITOOL 480S ein fortschrittliches System, das in der Lage ist, eine Vielzahl fortschrittlicher Photolackprozesse zu handhaben. Sein ausgeklügeltes Design und die Verwendung von High-End-Technologie ermöglicht es, präzise Ergebnisse mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit zu liefern. Dies macht es zu einer idealen Wahl für Serien- und fortgeschrittene IC-Anwendungen.