Gebraucht SEMITOOL 8300 #84827 zu verkaufen

SEMITOOL 8300 Photoresist Equipment ist eine umfassende Ausrichtungs- und Lithographielösung, mit der mikrogroße Strukturen auf einem Substrat erzeugt werden. Es eignet sich hervorragend für fortgeschrittene Herstellungsverfahren von Halbleiterbauelementen und für die Forschung an elektronischen Materialien. Es umfasst zwei verschiedene Geräte - einen Stepper und einen Coater/Entwickler -, um Substrate genau auszurichten und für die Mikrostrukturierung vorzubereiten. Der Stepper ist ein optisches Abtastsystem, mit dem Substrate präzise und präzise gescannt werden können. Der Stepper nutzt verschiedene Funktionen, um eine hochgenaue Ausrichteinheit bereitzustellen, wie einen Edelstahlrahmen, eine indizierte Platte und eine Digitalkamera. Es kann Funktionen von 5 Mikrometer oder kleiner genau abbilden und hat eine extrem schnelle Scangeschwindigkeit, um Substrate schnell auszurichten. Mit dem Coater/Developer kann Photolack auf das Substrat aufgebracht werden, um Mikrostrukturen darauf zu erzeugen. Der Coater/Entwickler enthält zwei Hauptteile - einen Coater und einen Entwickler. Mit dem Beschichtungsmittel wird ein gleichmäßiger Photolackfilm auf das Substrat aufgebracht. Sie besteht aus einer pneumatischen Druckdüse, die die Anwendung präzise und gleichmäßig steuern kann. Der Entwickler enthält gemischte ionische Lösungen (MBI), die helfen, Photolack vom Substrat zu entfernen. Darüber hinaus umfasst 8300 eine Reihe von leistungssteigernden Zubehörteilen wie einen automatisierten Indexer, Autofokusstufen, Temperaturregelungssysteme und Mehrschichtdetektorsysteme. All dieses Zubehör ermöglicht eine höhere Genauigkeit und Leistung von der Maschine. Das Tool enthält auch eine Reihe weiterer Funktionen zur Verbesserung der Prozessproduktivität und Produktqualität, wie die Fähigkeit, Dark Field Imaging-Technologie und erweiterte Edge-Ortungsfunktionen zu verwenden. SEMITOOL 8300 Photoresist Asset ist eine zuverlässige, vielseitige und moderne Lithographielösung, die sich ideal für mikrostrukturierende Anwendungen eignet. Seine erweiterten Funktionen ermöglichen hohe Genauigkeit und Präzisionsprozesse und bieten gleichzeitig eine Reihe von Optionen zur Leistungssteigerung. Dieses umfassende Lithographiemodell ist notwendig, um zuverlässige Ergebnisse zu erzielen und Systeme mit hohen Ausbeuten zu produzieren.