Gebraucht SEMITOOL 8300S #293755283 zu verkaufen

SEMITOOL 8300S
ID: 293755283
Spin Rinse Dryer (SRD).
SEMITOOL 8300S ist eine Photoresist-Verarbeitungsanlage, die entwickelt wurde, um präzise Ätz- und Abscheidungsergebnisse auf einer Vielzahl von Substraten zu liefern. Es bietet eine fortschrittliche Prozesskontrolle, die bei jeder Charge hochwertige Ergebnisse und konsistente Prozesszeiten ermöglicht. SEMITOOL 8300 S Maschine unterstützt schnelle und genaue Ergebnisse durch intelligente Batch-Überwachung. Das System umfasst eine Reihe verschiedener Werkzeuge, um viele verschiedene Arten von Aufgaben zu bewältigen, einschließlich Spin, Spray, Scribe und pneumatische Anwendungen. 8300-S ist mit einer voll automatisierten lasermodulierten Ätzeinheit ausgestattet, die kurze Prozesszeiten, eine präzise Ätzsteuerung und eine breite Palette von Ätzeinstellungen für verschiedene Substratanwendungen bietet. Die Kammer kann bis zu 10 Vollzonenlasten aufnehmen. Eine gepulste Plasmaquelle entfernt organische, nichtmetallische Verunreinigungen für bessere Ätzergebnisse, und die Photolackbeschichtung wird mit den Einzonen-, Dreizonen- oder Mehrzonenspinprozessen leicht erreicht. Darüber hinaus verfügt die Maschine über einen 4-Zonen-Spritzlackierer zur Abscheidung von Dünnfilmschichten und homogenen Beschichtungen sowie einen 5-Zonen-Scriber, der präzise Ätzparameter für jeden Materialtyp bereitstellt. 8300 S beinhaltet auch eine pneumatische Antriebsstation zur Nachbearbeitungsreinigung und zum Abscheiden von sputterbaren Schichten. Alle unabhängigen Prozesswerkzeuge sind mit eingebauten Gasauswahlventilen und Prozessregelparametern ausgestattet. Insgesamt ist SEMITOOL 8300-S ein fortschrittliches Photoresist-Bearbeitungswerkzeug, das präzise Ätz-, Abscheidungs- und Reinigungsfunktionen auf einer breiten Palette von Substraten bietet, einschließlich Wafern, Substraten und anderen empfindlichen Teilen. Seine fortschrittliche Prozesssteuerung und mehrere Tools bieten optimale Leistung und Ergebnisse und sind somit eine ideale Wahl für die Verarbeitung von Photoresist mit hohem Volumen und geringem Volumen.
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