Gebraucht SEMITOOL 8300S #9275 zu verkaufen

SEMITOOL 8300S
ID: 9275
Spin Rinse Dryer Can use full height cassette.
SEMITOOL 8300S ist ein Photolackverarbeitungssystem, das hauptsächlich zum Ätzen und Entwickeln von Wafern mit einem Durchmesser von bis zu 8 Zoll entwickelt wurde. Es bietet präzise Steuerung und wiederholbare Ergebnisse, so dass es für eine Reihe von Halbleiteranwendungen wie MEMS, Nanotechnologie und Optoelektronik geeignet ist. Sie besteht aus einer Nassbankstation, die zwei chemische Tanks - die mit mehreren Prozessen vorprogrammiert werden können - und einer Bearbeitungskammer aufnimmt. Das System ist mit einer Vielzahl von Zubehörteilen ausgestattet, wie einem Säureneutralisator, Druckregler, Vakuumentlüftung, Wärmetauscher und digitalem Thermostat für die maßgeschneiderte Verarbeitung. Die Kammer weist eine Photolackplatte auf, die ultraviolette Strahlung (UV) gleichmäßig auf der Waferoberfläche verteilt. Sie ist weiter in zwei unabhängig steuerbare Zonen unterteilt - eine für die Inzisionsaktivierung und eine für die Entwicklung. Die UV-Intensität und die Verarbeitungszeit können für Wafereigenschaften wie Dicke und Widerstand eingestellt werden. Die Fotolackplatte kann schnell und einfach entfernt werden, um zwischen großen und kleinen Waferdurchmessern zu wechseln. In der ersten Zone werden optisch aktive Masken über den Wafer gelegt und durch das UV-Licht aktiviert. Dies bewirkt einen Oxidationsprozess, der die gewünschten Formen auf der Oberfläche ätzt und bildet. Die zweite Zone verwendet naßchemische Lösungen, um überschüssigen Photolack zu entfernen und die Oberfläche zu reinigen. Dies geschieht durch eine Kombination aus Vakuum, Hochdruck-Zahnradpumpe und Low-Flow-Injektor. Das System eröffnet auch Möglichkeiten für komplexere Ätzprozesse durch reaktives Ionenätzen (RIE) und tiefenreaktives Ionenätzen (DRIE). RIE kann verwendet werden, um in drei Dimensionen zu ätzen, während DRIE wirksam ist, um dicke Schichten von Photolack zu entfernen und rasiermesserscharfe Merkmale bereitzustellen. Darüber hinaus können Naßätzprozesse sogar durch gebundene Oxidätztechniken Ergebnisse erzielen. Insgesamt bietet SEMITOOL 8300 S eine umfassende, aber benutzerfreundliche Lösung für die Konstruktion und Herstellung von Wafern für hochpräzise Anwendungen. Seine Flexibilität in Bezug auf Platteneinsatz, Pumpenkonfigurationen und Prozessparameter sorgt dafür, dass er mit den neuesten Erwartungen und Technologien auf dem neuesten Stand bleibt.
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