Gebraucht SEMITOOL 840F #151787 zu verkaufen

SEMITOOL 840F
Hersteller
SEMITOOL
Modell
840F
ID: 151787
Wafergröße: 4"
Spin rinse dryer, 4" 101 Controllers Digital Ferro Fluidic Seal Brushed Motor Electro polished Bowl Finish Polypropylene Cabinet “Aero Style” : New Color coded pneumatic lines Resistivity Option CE door lock requirement Rotors (1-2”, 1-4”) 4 bolt Complete Documentation Package Guaranteed Particle counts < 25 at 0.3 micron Manufactured and Qualified with 17 meg Ohm DI water and class 1 N2 Shipping Crate.
SEMITOOL 840F ist eine fortschrittliche Schlammverarbeitungsanlage für Photoresists. Dieses System ist für Photolackentwicklung, Photolithographie, Ätz- und Reinigungsprozesse konzipiert und eignet sich für eine Vielzahl von Halbleiteranwendungen. Das Gerät verfügt über eine Präzisionsmessmaschine und erweiterte Volumensteuerungsfunktionen, die präzise, wiederholbare Gülleanwendungen ermöglichen. Dies führt zu einer höheren Produktivität und zuverlässigeren Ergebnissen bei verkürzten Zykluszeiten. Eine robuste Steuerungsplattform sorgt für präzise, wiederholbare Photolackbeschichtungen und Spülfunktionen, was zu zuverlässigen und konsistenten Ergebnissen führt. 840F ist mit vier Hochleistungs-Resistdispersionspumpen ausgestattet, die eine gleichmäßige Verteilung von Resist für konsistente dünne Folien ermöglichen. Dieses Werkzeug verfügt zudem über eine temperaturgesteuerte Förderanlage, die sicherstellt, dass Resist bei präzisen Temperaturen und Viskositäten für eine genaue Dünnschichtbeschichtung bleibt. Das Modell verfügt über eine doppelt wirkende Laufbewegung, die eine präzise Mischung von Photoresist-Aufschlämmung ermöglicht und eine verbesserte Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit ermöglicht. Darüber hinaus verbessert die Dual-Pass-Through-Waschfähigkeit die Gleichmäßigkeit der Resistbeschichtung und entfällt die Notwendigkeit eines manuellen Spülschritts. SEMITOOL 840F ist mit einer robusten Alarmanlage ausgestattet, die den Bediener benachrichtigt, wenn Komponenten außerhalb der Toleranz liegen oder ein Systemfehler aufgetreten ist. Es verfügt auch über automatische Selbstkalibrierung und Flüssigkeitsstandssensoren, so dass das Gerät ohne manuelle Kalibrierung präzise bleiben kann. Die Konstruktion der Maschine sorgt für minimale Partikelverschmutzung und verringerte Wartung und Stillstandszeiten, was eine längere Werkzeugverfügbarkeit und Produktverfügbarkeit ermöglicht. Die Plattform ist auch mit einer Vielzahl von Chemikalien und Aufschlämmungsformulierungen kompatibel, so dass eine individuelle Bedienung möglich ist. 840F ist ein fortschrittliches Slurry Processing Asset für Photoresists, das für viele Halbleiteranwendungen geeignet ist. Sein branchenführendes Design bietet hochpräzise Dosierung, Dual-Action-Barrel-Agitation, Dual-Pass-Through-Wash-Fähigkeit und ein temperaturgesteuertes Liefermodell, das maximale Effizienz, Wiederholbarkeit und Zuverlässigkeit gewährleistet.
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