Gebraucht SEMITOOL 860F #84179 zu verkaufen

SEMITOOL 860F
Hersteller
SEMITOOL
Modell
860F
ID: 84179
Wafergröße: Up to 5"
Spin rinse dryer, up to 5".
SEMITOOL 860F ist eine Photolackausrüstung, die hauptsächlich bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Das System umfasst ein Photohead und einen kundenspezifischen Roboterarm zur präzisen Steuerung der Masken- und Substratplatzierung, wodurch eine gleichmäßige und effiziente Photoresist-Beschichtung von extrem kleinen und komplexen Mustern ermöglicht wird. Das Gerät bietet auch eine Vielzahl von Optionen, darunter eine vierstufige Kühlschale und beheizte Lösungsmittelschale, sowie Spinnbeschichtung, Sprühbeschichtung und Echtzeit-Überwachung von Wafertemperatur, Druck und anderen variablen Bedingungen. 860F Maschine kann Lösungsmittelprozesse wie Methylisobutylketon (MIBK) und 2-Methylisobutylketone (MIBK II) sowie feststoffstarke Systeme wie Polyimid-, Polyurethan- und Siliciumoxynitrid-Lösungen unterstützen. Das Werkzeug bietet auch fortschrittliche Sprühtechnologie, wie elektrostatische, unterschiedliche Düsenlochgröße, gleichmäßige Strömung und geringe Aerosolbildung. Diese Präzisionsregelung ermöglicht eine zuverlässige Beschichtung von schwer zu beschichtenden Merkmalen, wie durchlässigen Kontaktschichten, sowie die Strukturierung kleiner Merkmale und Schaltungsstrukturen, wie SRAM-Speicherzellen. Darüber hinaus verfügt SEMITOOL 860F über einen Low-K-Wert-Spender für verbesserte Prozessgleichförmigkeit, und seine erweiterten Kontrollen ermöglichen eine einfache Prozessoptimierung. Das Asset unterstützt auch Funktionsgrößen von 0,18 um bis 5 um, wodurch keine manuelle Maskenausrichtung erforderlich ist. 860F verfügt über Sicherheitsmerkmale wie zweistufige Backöfen, einstellbare Gasspülungen und Low-ESD-Konstruktion, was es zu einem zuverlässigen und sicheren Photoresist-Prozesswerkzeug macht. Zusammenfassend ist SEMITOOL 860F ein robustes Photoresist-Modell, das eine kostengünstige, zuverlässige und hochauflösende Strukturierung komplexer Muster und empfindlicher Merkmale ermöglicht, die für die fortschrittlichsten Halbleiterherstellungsprozesse geeignet sind.
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